首页> 中国专利> 用于检测新霉素的新霉素分子印迹‑量子点聚合物及制备方法

用于检测新霉素的新霉素分子印迹‑量子点聚合物及制备方法

摘要

本发明公开一种用于检测新霉素的新霉素分子印迹‑量子点聚合物的制备方法,包括以下步骤,首先在量子点表面修饰二氧化硅壳层得到二氧化硅壳层量子点,然后在二氧化硅壳层量子点的表面修饰硅烷化苯硼酸和新霉素得到量子点复合物,最后将量子点复合物中新霉素洗脱下来得到具有新霉素空间识别位点和苯硼酸‑糖基亲和结合位点的新霉素分子印迹‑量子点聚合物。该新霉素分子印迹‑量子点聚合物能可特异、快速、灵敏、高通量地检测新霉素含量。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-09-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N21/64 申请日:20170324

    实质审查的生效

  • 2017-08-08

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号