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黑矩阵光罩、黑矩阵的制造方法及阵列基板

摘要

本发明公开一种黑矩阵光罩、黑矩阵的制造方法及阵列基板,其中黑矩阵光罩包括黑矩阵区和显示区,黑矩阵区排布有多个附属图案;显示区的透光率和附属图案的透光率均小于黑矩阵区上非附属图案的透光率,或者,显示区的透光率和附属图案的透光率均大于黑矩阵区上非附属图案的透光率。将本发明的黑矩阵光罩用于黑矩阵的制造中,能够获得质量较好的黑矩阵。

著录项

  • 公开/公告号CN106990670A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-07-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 深圳市华星光电技术有限公司;

    申请/专利号CN201710300977.9

  • 发明设计人 莫超德;

    申请日2017-05-02

  • 分类号G03F1/38(20120101);G02F1/1335(20060101);

  • 代理机构44280 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人钟子敏

  • 地址 518006 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号

  • 入库时间 2023-06-19 02:55:17

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-08-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F1/38 申请日:20170502

    实质审查的生效

  • 2017-07-28

    公开

    公开

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