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一种高选择性喹诺酮类抗生素分子印迹聚合物的制备方法

摘要

本发明公开了一种高选择性喹诺酮类抗生素分子印迹聚合物的制备方法。本发明以诺氟沙星作为模板分子,采用沉淀聚合法制备分子印迹聚合物,并对包括功能单体、交联剂在内的制备条件进行优化,获得了对模板分子及其结构类似物具有特异性吸附能力的分子印迹聚合物。本发明制备方法所制备出的高选择性分子印迹聚合物具有极高的印因迹子,具有更优的特异性吸附能力。可以用于有效地、准确地检测出食物中抗生素痕量残留。

著录项

  • 公开/公告号CN106799216A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-06-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201710089166.9

  • 申请日2017-02-20

  • 分类号B01J20/26(20060101);B01J20/281(20060101);B01J20/30(20060101);C08F120/06(20060101);C08F126/06(20060101);C08J3/24(20060101);G01N30/02(20060101);

  • 代理机构11457 北京律谱知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人黄云铎

  • 地址 430040 湖北省武汉市东湖高新技术开发区高新大道666号F区

  • 入库时间 2023-06-19 02:27:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-06-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):B01J20/26 申请日:20170220

    实质审查的生效

  • 2017-06-06

    公开

    公开

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