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提高光发射显微镜背面定位效果的方法、样品及制作方法

摘要

本发明公开了一种提高光发射显微镜背面定位效果的方法、样品及其制作方法,通过在样品芯片的衬底背面加工形成具有一定弧度的弧形凸起结构,以此提高定位分析时的镜头数值孔径,从而使用EMMI的常规镜头,即可获得更好的芯片背面定位分析效果,并可根据不同的衬底厚度,加工形成具有对应弧度的弧形凸起结构,从而可以使用一个镜头对不同样品进行分析,大大缩减了分析成本。

著录项

  • 公开/公告号CN106770357A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-05-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华力微电子有限公司;

    申请/专利号CN201611048175.5

  • 发明设计人 陈强;高金德;

    申请日2016-11-22

  • 分类号G01N21/95;G01N1/28;

  • 代理机构上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人吴世华

  • 地址 201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号

  • 入库时间 2023-06-19 02:20:31

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-26

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G01N21/95 申请公布日:20170531 申请日:20161122

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2017-06-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N21/95 申请日:20161122

    实质审查的生效

  • 2017-05-31

    公开

    公开

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