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基于激光刻蚀技术制备微针阵列模板的方法及产物与应用

摘要

本发明公开了一种基于激光刻蚀技术制备微针阵列模板的方法及产物与应用,其中该制备方法包括以下步骤:(1)将PDMS和固化剂固化冷却后得到PDMS基板;(2)设计激光刻蚀掩模板的图样使该图样为同心圆阵列;(3)将PDMS基板放置于激光雕刻机的雕刻区域,并设置激光加工工艺条件参数;接着,参照激光刻蚀掩模板图样对PDMS基板进行激光处理,从而得到经过激光刻蚀的PDMS基板,即微针阵列模板。本发明通过对其关键激光刻蚀的工艺条件进行改进,能够有效解决微针阵列模板制备过程复杂、价格昂贵、结构设计性差以及微针阵列模板大规模生产和应用困难的问题。

著录项

  • 公开/公告号CN106511257A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-03-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201610882818.X

  • 发明设计人 朱锦涛;李朝;柳佩;陶娟;董励芸;

    申请日2016-10-10

  • 分类号A61K9/00(20060101);A61K47/34(20170101);A61K47/36(20060101);A61L31/06(20060101);A61L31/04(20060101);A61L31/14(20060101);B23K26/362(20140101);

  • 代理机构42201 华中科技大学专利中心;

  • 代理人许恒恒

  • 地址 430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

  • 入库时间 2023-06-19 01:51:07

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-05-01

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):A61B17/00 申请公布日:20170322 申请日:20161010

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2017-04-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):A61K9/00 申请日:20161010

    实质审查的生效

  • 2017-03-22

    公开

    公开

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