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一种MEMS器件制作用硅单晶材料的热场和制备方法

摘要

本发明涉及一种MEMS器件制作用硅单晶材料的热场和制备方法,改变了单晶炉热场的上下保温层厚度,优化了热场的纵向温度梯度,使用新型结构的导流筒,改善了氩气流场结构,采用磁场拉晶,并随着熔硅减少,逐渐增强磁场强度,以保证晶体的氧碳杂质含量得到有效控制,减少后期单晶中氧沉淀及相关缺陷的生成,掺入电中性锗元素,起到抑制微缺陷形成的作用,改善晶体的微缺陷密度参数。技术效果是减少了熔体稳定化时间,改善了拉晶效率,提高放肩拉速,小角度锥形放肩,减低晶体拉制速率,提高升温幅度和速率,抑制因锗元素造成的组分过冷问题,保证晶体生长稳定。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-12-06

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C30B29/06 申请公布日:20170315 申请日:20161102

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2017-04-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):C30B29/06 申请日:20161102

    实质审查的生效

  • 2017-03-15

    公开

    公开

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