一种折射率连续渐变的光学薄膜制备方法

摘要

本发明公开一种折射率连续渐变的光学薄膜制备方法，包括以下步骤：一、样品台设置：提供一基底，将基底设置在通过转动轴实现转动的样品台上，且样品台的转动轴与基底表面平行，二、材料源设置：提供一蒸镀源或溅射靶材，调整蒸镀源或溅射靶材位置，使其向基底入射的方向与样品台的转动轴垂直，蒸镀源或溅射靶材入射方向与基底之间形成可变化的夹角；三、镀膜控制：蒸镀源或溅射靶材向样品台上的基底送入镀膜材料，此时不断转动样品台并控制转速，使基底与蒸镀源或溅射靶材之间的夹角在0‑90°内连续变化，制得密度连续变化的光学薄膜。本发明实现蒸镀光学薄膜的折射率的连续控制，制得光学薄膜产品具有更好的光学性能，可有效增加对光的穿透或反射的控制。