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公开/公告号CN106372436A
专利类型发明专利
公开/公告日2017-02-01
原文格式PDF
申请/专利权人 焦桂花;
申请/专利号CN201610803291.7
发明设计人 焦桂花;
申请日2016-09-06
分类号G06F19/00;
代理机构
代理人
地址 523808 广东省东莞市松山湖科技产业园区新城大道一号
入库时间 2023-06-19 01:29:48
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-03-31
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G06F19/00 申请公布日:20170201 申请日:20160906
发明专利申请公布后的视为撤回
2017-02-01
公开
机译: 一种二萘嵌苯乙烯二氨基聚丙烯的含硫衍生物的生产方法
机译: 一种二萘嵌苯乙烯二氨基聚丙烯衍生物的生产方法
机译: 一种二萘嵌苯乙烯二氨基聚丙烯的后代的生产方法
机译:苯并-和苯并环丁二烯-退火的三萘嵌苯和高级萘嵌苯中的循环共轭
机译:金属二萘嵌苯中间体通过金属萘化物还原四(二-叔丁基甲基甲硅烷基)二苯乙烯的二烯基阴离子:合成与表征
机译:通过气相沉积在玻璃基板上自组装二萘嵌二苯和萘二酰亚胺的纳米结构
机译:微乳液模板工程化己二酮二萘嵌酸纳米颗粒
机译:细菌视紫红质和酪氨酰肽和蛋白质的定向和旋转运动,通过时间分辨的吸收和发射各向异性和三萘嵌苯单分子在室温和低温下的固体荧光寿命而确定。
机译:四供体或受体取代的邻二萘嵌苯的合成光物理和电子性质表现出四个可逆的氧化或还原反应
机译:苯并和苯并环丁二烯-退火的三萘嵌苯和高级萘嵌苯中的循环共轭
机译:中性per(C20H12),三萘嵌苯(C30H16)和四萘嵌苯(C40H20)及其正离子和负离子的电子吸收光谱:Ne基质 - 分离光谱和时间依赖性密度泛函理论计算