精密光学元件的超声清洗方法

摘要

一种精密光学元件的超声清洗方法，所述工艺依次包括去离子水喷淋、去离子水超声清洗、去离子水喷淋、去离子水漂洗、切水、烘干工艺，所述的去离子水超声清洗是在40KHz‑270KHz中选择多个不同频率的超声清洗3‑5分钟，清洗温度为50‑60°；清洗时超声时间3‑5min，温度为50‑60°。本发明采用多频段超声加温清洗，利用不同频率的超声波所能清洗的最有效颗粒的对应关系，全面去除光学精密元件表面残留的污染物，提高了元件表面的清洁度，增强了光学元件的抗激光损伤等应用能力。