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一种生长可控AlN有序纳米阵列的方法

摘要

本发明公开了一种生长可控AlN有序纳米阵列的方法。包括下述步骤:a、在Si基片上制作Si基片孔阵列;b、在上述的Si基片孔阵列的孔中填充催化剂,形成催化剂点阵;c、利用气相沉积,使AlN在催化剂处优先成核,之后沿该核在空气中自组织生长形成一维锥状结构的AlN纳米线。本发明具有提高场发射显示器发射效率和发射均匀性的特点。

著录项

  • 公开/公告号CN106206212A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-12-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 六盘水师范学院;

    申请/专利号CN201610588752.3

  • 发明设计人 胡明哲;

    申请日2016-07-25

  • 分类号H01J9/02(20060101);B82Y30/00(20110101);B82Y40/00(20110101);

  • 代理机构11362 北京联创佳为专利事务所(普通合伙);

  • 代理人张梅

  • 地址 553004 贵州省六盘水市钟山区明湖路

  • 入库时间 2023-06-19 01:03:10

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-06-11

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J9/02 申请日:20160725

    实质审查的生效

  • 2016-12-07

    公开

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