KDP晶体磁流变抛光后的清洗方法

摘要

本发明提供了一种KDP晶体磁流变抛光后的清洗方法，包括以下步骤：（1）对抛光后的KDP晶体进行射流冲洗；（2）对射流冲洗后的KDP晶体进行复合超声频率组合溶剂清洗；（3）在步骤（2）中，组合清洗剂包括胺类和醇类清洗剂；（4）在步骤（2）中，复合频率涵盖45-1500KHz。（5）清洗完成后，将KDP晶体干燥并存放于密封防潮盒内。本发明操作简便，可高效去除KDP晶体磁流变抛光产生的油膜和颗粒等各种污染，清洗后可获得较低的粗糙度，为激光倍频晶体的超精密抛光提供良好的技术支撑。