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一种半导体镀膜设备用的整体式观察盖板

摘要

一种半导体镀膜设备用的整体式观察盖板,该观察盖板为整体式透明盖板结构,不仅能解决在现有设备反应腔体的高温工艺过程是不可观察的状况,而且增加了精确的定位及互锁触发功能。其结构包括大盖板、塑料保护板、塑料垫片、金属压板、石英玻璃及定位块等。上述大盖板的密封槽内分别嵌入密封圈A、密封圈B,在嵌入密封圈的大盖板的端面上设有石英玻璃,石英玻璃上面设有塑料垫片,金属压板压在塑料垫片上。将大盖板水平单侧及竖直单侧安装上定位块,最后将安装好的盖板结构通过定位块定位在反应腔水平及竖直方向上,在反应腔侧边的互锁通过大盖板底端面的接触,可以完全触发互锁功能,进而可以观察常温传片或者高温传片工艺过程,或者对腔体进行抽气检漏等。

著录项

  • 公开/公告号CN106158695A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-11-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 沈阳拓荆科技有限公司;

    申请/专利号CN201510172504.6

  • 发明设计人 方仕彩;吴凤丽;姜崴;

    申请日2015-04-13

  • 分类号H01L21/67;

  • 代理机构沈阳维特专利商标事务所(普通合伙);

  • 代理人甄玉荃

  • 地址 110179 辽宁省沈阳市浑南新区新源街1-1号三层

  • 入库时间 2023-06-19 00:59:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-11-02

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L21/67 申请公布日:20161123 申请日:20150413

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2016-11-23

    公开

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