法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-12-20
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G01N23/22 申请公布日:20161019 申请日:20150313
发明专利申请公布后的驳回
2016-11-16
实质审查的生效 IPC(主分类):G01N23/22 申请日:20150313
实质审查的生效
2016-10-19
公开
公开
机译: 二次电子发射率测量装置
机译: 二次电子发射率测量装置
机译: 用于测量平面测量对象(例如镜子)的材料表面的表面粗糙度的装置,例如半导体工业,具有确定单元,用于基于干涉条纹对比度来确定表面粗糙度