图形可变的电子束光刻机

摘要

本发明公开了一种图形可变的电子束光刻机，包括由上至下依次安装的：一电子发射枪；用于发射电子；以电子发射枪发射电子的方向为系统参考轴心；一约束孔径；安装于所述电子发射枪的电子发射方向，与轴心与系统参考轴心相重合；多个约束磁块；围绕所述系统参考轴心间隔均匀的分布；一磁场偏转线圈；其轴心与系统参考轴心相重合；一偏转电场产生装置；包括互相垂直的x轴方向电场装置和y轴方向电场产生装置；一光刻掩膜；一晶圆放置台；其轴心与所述系统参考轴心重合。本发明在晶圆放置台和电子发生装置之间设置有光刻掩膜，阻挡了不在光刻图案路径上的电子束，可有效增加光刻精度。