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基材处理装置及方法、涂膜形成系统、涂膜形成方法

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摘要

本发明提供一种能够抑制对基材的处理的均匀性下降且修正基材的位置偏移的基材处理装置、涂膜形成系统、基材处理方法以及涂膜形成方法。干燥装置(30A)对以卷对卷方式搬送的基材(5)进行干燥处理。干燥装置(30A)具有对基材(5)的一个主面进行干燥处理的多个表面干燥部(35)。在配置有多个表面干燥部(35)的干燥处理区间(12A)排列有多个倾动辊(331)。控制部(7)基于由位置检测器(51A)检测的基材(5)的在宽度方向上的位置，来控制倾动机构(41)，由此使各倾动辊(331)倾动来修正基材(5)的位置偏移。

著录项

公开/公告号CN105977445A

专利类型发明专利
公开/公告日2016-09-28

原文格式PDF
申请/专利权人株式会社思可林集团;
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申请/专利号CN201610134262.6
发明设计人神田宽行;
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申请日2016-03-09
分类号H01M4/04;H01M4/139;
代理机构隆天知识产权代理有限公司;
代理人宋晓宝
地址日本国京都府京都市
入库时间 2023-06-19 00:34:22

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2019-11-22

发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01M4/04 申请公布日:20160928 申请日:20160309

发明专利申请公布后的驳回
2016-10-26

实质审查的生效 IPC(主分类):H01M4/04 申请日:20160309

实质审查的生效
2016-09-28

公开

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