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铜表面粗化微蚀刻液及其应用方法

摘要

本发明公开一种铜表面粗化微蚀刻液,其主要成分包括:硝酸2.5~6.0mol/L、无机酸盐10~80g/L、不饱和脂肪酸和/或不饱和脂肪酸盐0.5~30g/L、脂肪胺1‑30g/L和余量去离子水。本发明采用硝酸/无机酸盐体系,结合不饱和脂肪酸和/或不饱和脂肪酸盐、脂肪胺,其蚀刻速率稳定、对铜表面的粗化程度良好,且蚀刻后铜表面粗化均匀,可有效提高铜表面与聚合物类物质如干膜、感光阻焊油墨等的结合力,能够满足细线宽电路加工工艺的要求;此外其对不锈钢设备无腐蚀,没有氯离子干扰问题,因此原使用过硫酸盐体系或硫酸/双氧水体系粗化微蚀刻液的厂家不需要更换钛质设备就能使用。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-05-01

    授权

    授权

  • 2016-09-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23F1/18 申请日:20160311

    实质审查的生效

  • 2016-07-20

    公开

    公开

说明书

技术领域

本发明涉及一种金属表面处理剂,尤其涉及一种铜表面粗 化微蚀刻液及其应用方法。

背景技术

随着电子行业的飞速发展,作为电子元器件载体的印制电 路板的电路图形线宽也越来越小。印制电路板的导电电路图形 的制作过程通常为采用光刻工艺将设计的电路图形由掩模版 转移至铜表面,然后经过曝光、显影、蚀刻等工序最终形成铜 电路图形。

由于导电图形线宽的缩小,导致铜表面与光刻工艺所使用 的湿膜、干膜或感光阻焊油墨等聚合物类物质的接触面缩小, 结合力降低。为了提高铜表面与聚合物类物质的结合力,需要 对铜表面进行粗化。

目前用于印制电路板生产过程的粗化蚀刻液主要有以下 几种类型:过硫酸盐溶液体系、硫酸/过氧化氢体系、甲酸/氯 化物体系等。其中过硫酸盐体系的粗化微蚀刻液使用简便,在 印制电路板行业普遍使用,但粗化程度较差,不能满足细线宽 电路加工的需要;硫酸/双氧水体系的粗化微蚀刻液在印制电 路板行业的应用也十分普遍,铜表面粗化程度显著好于过硫酸 盐体系,但它存在氯离子干扰问题,加工过程中进入自来水将 使微蚀刻速率和粗化程度发生很大变化,同时在细线宽电路加 工中也存在一定问题,特别是“渗镀”问题;甲酸/氯化物体 系的粗化微蚀刻液是近年逐步普及的粗化微蚀刻液,它对铜表 面的粗化效果显著优于其他体系,但该体系微蚀刻液对不锈钢 材质腐蚀严重,过去使用过硫酸盐体系或硫酸/双氧水体系粗 化微蚀刻液的厂家需要将原有不锈钢设备更换为钛质设备才 能使用,应用成本也高于过硫酸盐体系或硫酸/双氧水体系粗 化微蚀刻液。

发明内容

为了克服上述现有技术中存在的不足,本发明提供了一种 铜表面粗化微蚀刻液及其应用方法,该粗化微蚀刻液蚀刻速率 稳定、粗化程度均匀,能够满足印刷电路板细线宽电路图形的 加工需求。

本发明为了解决其技术问题所采用的技术方案是:

本发明公开了一种铜表面粗化微蚀刻液,该铜表面粗化微 蚀刻液其主要成分包括:硝酸2.5~6.0mol/L、无机酸盐 10~80g/L、不饱和脂肪酸和/或不饱和脂肪酸盐0.5~30g/L、脂 肪胺1-30g/L和余量去离子水。

其中所述无机酸盐为硝酸盐、磷酸铁和氯化铁中的至少一 种。

所述不饱和脂肪酸为顺丁烯二酸、反丁烯二酸、甲基丙烯 酸和丙烯酸中的至少一种,所述不饱和脂肪酸盐为上述不饱和 脂肪酸的钠盐、钾盐和铵盐中的至少一种。不饱和脂肪酸和/ 或不饱和脂肪酸盐可加速铜表面的粗化反应,其中反丁烯二酸 是一种最优选的不饱和脂肪酸化合物,反丁烯二酸盐是一种最 优选的不饱和脂肪酸盐化合物,然而其它的类似不饱和脂肪酸 化合物和/或不饱和脂肪酸盐化合物也是适用的,比如顺丁烯 二酸和/或顺丁烯二酸盐、甲基丙烯酸和/或甲基丙烯酸盐、丙 烯酸和/或丙烯酸盐,或者以上几种化合物的混合物等,该混 合物可以为上述各种不饱和脂肪酸的混合物,可以为上述各种 不饱和脂肪酸盐的混合物,也可以为上述各种不饱和脂肪酸和 上述各种不饱和脂肪酸盐的混合物,但本发明不局限于此。

本发明所述的铜表面粗化微蚀刻液中还包括有脂肪胺,所 述脂肪胺为乙二胺、二乙烯三胺、四乙烯五胺、单乙醇胺、三 乙醇胺中的至少一种。这是因为微蚀刻液在蚀铜的过程中,伴 随着铜离子浓度的提高,微蚀速率会发生很大变化,对蚀刻表 面的粗化均匀性造成不利影响,脂肪胺可以与铜离子形成稳定 的络合物,具有稳定腐蚀速率的作用。即脂肪胺主要用于控制 微蚀刻液微蚀速率的稳定性和粗化的均匀性。

本发明进一步的技术方案是:

所述铜表面粗化微蚀刻液其主要成分更优的包括:硝酸 2.5~3.5mol/L、无机酸盐25~40g/L、不饱和脂肪酸和/或不饱和 脂肪酸盐4~20g/L、脂肪胺10-15g/L和余量去离子水。

本发明还公开了一种采用上述铜表面粗化微蚀刻液进行 铜表面粗化微蚀刻的方法,该方法为将铜基材表面与所述铜表 面粗化微蚀刻液接触进行粗化蚀刻,其中所述铜表面粗化微蚀 刻液的温度为15~40℃。其中所述铜基材表面与铜表面粗化微 蚀刻液接触的方式为将铜基材浸渍于铜表面粗化微蚀刻液中, 并对微蚀刻液进行搅动;或将铜表面粗化微蚀刻液均匀采用低 压喷淋的方式均匀喷淋于铜基材表面,其中喷淋的压力为 0.05~0.25MPa。

本发明的有益技术效果是:本发明采用硝酸/无机酸盐体 系,结合不饱和脂肪酸和/或不饱和脂肪酸盐、脂肪胺,其蚀 刻速率稳定、对铜表面的粗化程度良好,且蚀刻后铜表面粗化 均匀,可有效提高铜表面与聚合物类物质如干膜、感光阻焊油 墨等的结合力,能够满足细线宽电路加工工艺的要求;此外硝 酸/无机酸盐体系粗化微蚀刻液对不锈钢设备无腐蚀,没有氯 离子干扰问题,因此原使用过硫酸盐体系或硫酸/双氧水体系 粗化微蚀刻液的厂家不需要更换钛质设备就能使用,应用成本 也与过硫酸盐体系或硫酸/双氧水体系粗化微蚀刻液基本持 平。

具体实施方式

下面结合具体实施例对本发明进行详细说明,下述具体实 施例中未涉及的各种操作方法和原料均为本领域常规操作方 法和原料,本申请中不再赘述。

具体实施例1

将290g硝酸(65%)用蒸馏水稀释到800ml,加入20g 磷酸铁使其充分溶解,然后加入0.5g三乙醇胺和5g顺丁烯二 酸,最后用蒸馏水稀释到1L,即得到酸含量约为3.0mol/L的 粗化微蚀刻液。

具体实施例2

将450g硝酸(65%)用蒸馏水稀释到800ml,加入40g 氯化铁使其充分溶解,然后加入1g乙二胺和10g反丁烯二酸, 最后用蒸馏水稀释到1L,即得到酸含量约为4.6mol/L的粗化 微蚀刻液。

具体实施例3

将580g硝酸(65%)用蒸馏水稀释到800ml,加入60g 硝酸铵使其充分溶解,然后加入2g单乙醇胺和15g丙烯酸, 最后用蒸馏水稀释到1L,即得到酸含量约为6.0mol/L的粗化 微蚀刻液。

具体实施例4

将290g硝酸(65%)用蒸馏水稀释到800ml,加入80g 硝酸铁使其充分溶解,然后加入4g二乙烯三胺和20g甲基丙 烯酸,最后用蒸馏水稀释到1L,即得到酸含量约为3.0mol/L 的粗化微蚀刻液。

具体实施例5

将450g硝酸(65%)用蒸馏水稀释到800ml,加入60g硝 酸铵使其充分溶解,然后加入10g四乙烯五胺和25g顺丁烯二 酸,最后用蒸馏水稀释到1L,即得到酸含量约为4.6mol/L的 粗化微蚀刻液。

具体实施例6

将550g硝酸(65%)用蒸馏水稀释到800ml,加入40g氯 化铁使其充分溶解,然后加入20g三乙醇胺和8g反丁烯二酸, 最后用蒸馏水稀释到1L,即得到酸含量约为5.6mol/L的粗化 微蚀刻液。

具体实施例7

将400g硝酸(65%)用蒸馏水稀释到800ml,加入40g硝 酸铁使其充分溶解,然后加入30g单乙醇胺和16g丙烯酸,最 后用蒸馏水稀释到1L,即得到酸含量约为4.1mol/L的粗化微 蚀刻液。

具体实施例8

将350g硝酸(65%)用蒸馏水稀释到800ml,加入40g氯 化铁使其充分溶解,然后加入15g乙二胺和24g甲基丙烯酸, 最后用蒸馏水稀释到1L,即得到酸含量约为3.6mol/L的粗化 微蚀刻液。

将上述具体实施例1~8中制备所得的粗化微蚀刻液进行 蚀铜测试和不锈钢腐蚀测试,以蚀铜速率、蚀铜后铜表面粗化 形貌和不绣钢腐蚀速率为指标检测本年发明粗化微蚀刻液所 能达到的技术效果。其中蚀铜测试以F-4双面覆铜板为测试 片,测试片的规格为50mm×40mm×1mm;不锈钢腐蚀测试以 304不锈钢板为测试片,该测试片的规格为50mm×40mm× 1mm;测试条件均为30℃下无搅拌测试2min,测试结果参见 表1所述。

表1

本发明采用硝酸/无机酸盐体系,该体系粗化微蚀刻液对 铜表面的粗化程度良好,能够满足细线宽电路加工工艺的要 求;此外硝酸/无机酸盐体系粗化微蚀刻液对不锈钢设备无腐 蚀,没有氯离子干扰问题,因此原使用过硫酸盐体系或硫酸/ 双氧水体系粗化微蚀刻液的厂家不需要更换钛质设备就能使 用,应用成本也与过硫酸盐体系或硫酸/双氧水体系粗化微蚀 刻液基本持平。

以上所述仅为本发明的优先实施方式。应当指出的是,在 不脱离本发明原理的情况下,还可作出若干改进和变型,均视 为本发明的保护范围。

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