一种微纳PSS制备用软膜及其制造方法

摘要

本发明涉及一种微纳PSS制备用软膜制造方法，步骤为：首先，用Si或SiC基板制备硬膜，然后根据制备的硬膜利用树脂注塑成型制备出软膜半成品，在软膜半成品上镀一层厚度在150nm以上的高反射率金属膜，然后采用干法ICP刻蚀去除需曝光处的金属膜，从而形成所需的软膜；还涉及一种利用上述微纳PSS制备用软膜制造方法制得的软膜，包括软膜主体、梳齿组及高反射金属层，且高反射金属层覆盖住相邻两个梳齿所形成的凹槽。本发明的优点在于：利用本发明制备的软膜在进行曝光处理时，软膜与光刻胶无需接触即可进行曝光，有效的表面了光刻胶对软膜的污染，提高了软膜的使用寿命。