光扩散粉、光扩散粉的制备方法、量子点光刻胶及量子点彩膜

摘要

本发明属于显示技术领域，尤其涉及光扩散粉其制备方法、量子点光刻胶及量子点彩膜。本发明的光扩散粉制备方法为：烷氧基硅烷在酸性条件或碱性条件下进行共水解缩合反应，得到光扩散粉。本发明还公开了由所述光扩散粉制成的量子点光刻胶及量子点彩膜。所述光扩散粉具有有机链段结构和无机结构，与量子点光刻胶体系中的各种组分相容性较好，具有较好的分散效果，增加了光刻胶的均匀性。由该量子点光刻胶制成的量子点彩膜膜质均匀，光利用率高。