法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-02-22
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L21/762 申请公布日:20160601 申请日:20151229
发明专利申请公布后的视为撤回
2016-06-29
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/762 申请日:20151229
实质审查的生效
2016-06-01
公开
公开
机译: 在衬底上形成氧化物层的方法,例如绝缘体上硅衬底,例如用于制造移动电话,涉及氧化某种材料的前驱层以获得某种材料的氧化层
机译: 一种用于MEMS的绝缘体上硅衬底的生产方法
机译: 一种用于MEMS的绝缘体上硅衬底的生产方法