氧化物烧结体、氧化物溅射靶和导电性氧化物薄膜以及氧化物烧结体的制造方法

摘要

本发明涉及氧化物烧结体、氧化物溅射靶和导电性氧化物薄膜以及氧化物烧结体的制造方法。一种氧化物烧结体，其特征在于，包含铟(In)、钛(Ti)、锌(Zn)、锡(Sn)和氧(O)，In的含量相对于Ti的含量以原子数比计满足关系式3.0≤In/Ti≤5.0，Zn和Sn的含量相对于In和Ti的含量以原子数比计满足关系式0.2≤(Zn+Sn)/(In+Ti)≤1.5，Zn的含量相对于Sn的含量以原子数比计满足关系式0.5≤Zn/Sn≤7.0。该氧化物烧结体的体积电阻率低，能够进行DC溅射，并且能够形成透明且高折射率的导电膜。