法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-04-03
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L51/05 申请公布日:20160127 申请日:20150922
发明专利申请公布后的视为撤回
2016-02-24
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L51/05 申请日:20150922
实质审查的生效
2016-01-27
公开
公开
机译: 使用等离子体增强原子层沉积技术形成介电层的方法
机译: 使用等离子体增强原子层沉积技术形成介电层的方法
机译: 使用介电膜形成介电层的方法和用于制造其上形成有介电层的等离子体显示面板的基板的方法