首页> 中国专利> 使用液体前体制造亚微米结构

使用液体前体制造亚微米结构

摘要

描述了用于制造基底上的亚微米半导体结构的方法。该方法可包括:在支承基底之上形成至少一个模板层;在所述模板层中形成一个或多个模板结构,优选地一个或多个凹部和/或台面,所述一个或多个模板结构包括延伸入或延伸出所述模板层的顶部表面的一个或多个边缘;以液体半导体前体(优选地液体硅前体)来涂布所述一个或多个模板结构的至少一部分;以及,使所述液体半导体前体涂布的模板结构退火和/或暴露于光,其中在所述退火和/或曝光期间,所述液体半导体前体的一部分通过毛细管力靠着所述一个或多个边缘的至少一部分来累积,所述退火和/或曝光将所述累积的液体半导体前体转变成沿所述一个或多个边缘的至少一部分延伸的亚微米半导体结构。

著录项

  • 公开/公告号CN105264664A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-01-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 代尔夫特科技大学;

    申请/专利号CN201480018329.9

  • 申请日2014-01-28

  • 分类号H01L27/12;

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人谭佐晞

  • 地址 荷兰代尔夫特

  • 入库时间 2023-12-18 13:43:06

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-05-25

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L27/12 申请公布日:20160120 申请日:20140128

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2016-03-02

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L27/12 申请日:20140128

    实质审查的生效

  • 2016-01-20

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号