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逐层自组装包含光吸收或光稳定化合物的高分子电解质的方法和制品

摘要

本发明描述了保护基底免受光照引起的劣化的方法。所述方法包括提供基底以及将通过逐层自组装沉积的多个层设置在所述基底上。所述层的至少一部分包含分散在高分子电解质内的有机光吸收化合物、有机光稳定化合物,或它们的组合。还描述了包括基底和通过逐层自组装沉积的多个层的制品,其中所述层的至少一部分包含分散在高分子电解质内的有机光吸收化合物、有机光稳定化合物,或它们的组合。还描述了适用于所述方法和制品的无规共聚物。

著录项

  • 公开/公告号CN105229090A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-01-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 3M创新有限公司;

    申请/专利号CN201480028856.8

  • 申请日2014-04-14

  • 分类号C09D5/00(20060101);C08F22/00(20060101);C08F18/00(20060101);

  • 代理机构11256 北京市金杜律师事务所;

  • 代理人陈文平;侯宝光

  • 地址 美国明尼苏达州

  • 入库时间 2023-12-18 13:28:42

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-07-31

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C09D5/00 申请公布日:20160106 申请日:20140414

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2016-02-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):C09D5/00 申请日:20140414

    实质审查的生效

  • 2016-01-06

    公开

    公开

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