一种在硅表面制备钛/类金刚石纳米多层薄膜的方法

摘要

本发明公开了一种在硅表面制备钛/类金刚石纳米多层薄膜的方法。具体包括下列步骤：将预先化学清洗的单晶硅基片烘干，放置于阴极电弧装置的旋转样品台上；抽真空，通入氩气到真空室，通过离子源对硅基片表面进行溅射清洗；以高纯的金属钛和石墨作为靶材，采用直流和脉冲双激发源阴极等离子体放电技术，分别制备钛纳米功能层和类金刚石薄膜；根据需要进行后期真空退火处理。该方法制备工艺简单，可用于制备不同表面结构的类金刚石纳米多层复合薄膜。本发明制备的钛/类金刚石纳米多层薄膜具有高硬度、低应力和减摩耐磨损性能。