一种CVD工装表面微弧改性工艺

摘要

本发明属于CVD设备加工领域，具体涉及一种CVD工装表面微弧改性工艺。本发明通过微弧改性的方式，在工装表面所有位置生成一层改性薄膜，改善了CVD反应腔体内部的工装表面状态，使得表面对反应残留物有更好的附着效果，增强了耐磨性，不易脱落，不易产生微米级的颗粒；提高反应腔体的洁净度，对半导体工艺，特别是对微型显示芯片制造工艺意义重大。