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一种以镓液滴作为缓冲层外延GaN的结构及其制备方法

摘要

一种以镓液滴作为缓冲层外延GaN的结构及其制备方法,以镓液滴作为缓冲层外延GaN的结构,自下而上依次设置有衬底、缓冲层和GaN层,所述缓冲层为镓液滴层,镓液滴层生长在衬底上,镓液滴层上外延GaN层。其制备方法是采用金属有机物化学气相沉积法,在衬底上进行镓液滴沉积,制备镓液滴层,在镓液滴层上生长GaN层。本发明通过采用镓液滴层作为衬底与GaN外延层之间的缓冲层,以获得低应力、高质量的GaN外延层,降低LED器件的次品率,提高LED器件的质量,延长使用周期,生长的GaN外延层具有较低密度的位错,降低器件的漏电流,提升抗静电能力,有效地缓解了衬底层与GaN层之间的晶格失配和热膨胀系数失配的问题。

著录项

  • 公开/公告号CN105070804A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-11-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 山东浪潮华光光电子股份有限公司;

    申请/专利号CN201510453824.9

  • 发明设计人 逯瑶;曲爽;王成新;徐现刚;

    申请日2015-07-29

  • 分类号H01L33/12;H01L33/00;H01L29/778;H01L29/06;H01L21/335;

  • 代理机构济南日新专利代理事务所;

  • 代理人王书刚

  • 地址 261061 山东省潍坊市高新区金马路9号

  • 入库时间 2023-12-18 12:21:18

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-03-09

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L33/12 申请公布日:20151118 申请日:20150729

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2015-12-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L33/12 申请日:20150729

    实质审查的生效

  • 2015-11-18

    公开

    公开

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