图案的不可见性优异的透明导电光学片

摘要

本发明涉及一种包括蚀刻形成图案等的ITO层的透明导电光学片，通过所具有的各折射率匹配层的干涉效果，对ITO层的非蚀刻部和蚀刻部的反射率和反射色的差进行修正，使用户无法通过视觉识别非蚀刻部和蚀刻部，从而能够使下部显示器上所要显示的图像清晰度不会下降。并且，由于所述透明导电光学片在进行热处理时ITO层的结晶率优异且尺寸变化率小，因此稳定性和可靠性高，且由于具有良好的表面硬度，因此操作性高。从而，所述透明导电光学片广泛利用于各种电子设备的显示器面板中应用的触摸屏面板领域。

说明书

技术领域

本发明涉及一种包含氧化铟锡(indium tin oxide，ITO)的透明 导电光学片，更具体地，涉及一种在触摸屏面板等上使用的包含蚀刻 形成图案等的ITO层的透明导电光学片。

背景技术

最近，触摸屏面板(touch screen panel，TSP)普遍应用于手机、 平板仪器、监视器等的显示器上。作为这种TSP的关键材料，主要 使用包含作为透明导电材料的ITO的光学片。

包含ITO的光学片使用于触摸屏面板时，一般对ITO层进行部 分蚀刻来形成感应图案。然而，由于ITO具有从可视光波长区域 (380～730nm)越向短波长方向移动折射率越高的固有的分散 (dispersion)特性，特别是，ITO层反射的光在450nm以下的波长 情况下反射更多的光，因此反射率高且反射色呈绿色。根据这种特性， 在形成有图案等的ITO层中，非蚀刻部和蚀刻部的反射率和反射色会 存在很大差别，这会使ITO层的图案被用户的肉眼识别而导致在下部 显示器上所要显示的图像清晰度下降。

由此，正在开发旨在改善图像清晰度的光学片(参照韩国公开专 利公报第2010-0008758号)，该薄片在透明基层与ITO层之间具备折 射率匹配层(refractive index matching layer)，由此通过薄膜干涉效果 对ITO层的非蚀刻部和蚀刻部之间的光学特性进行修正来改善图像 清晰度。

然而，现有的透明导电光学片在光学/电学/机械特性方面还存在 需要改进的地方。

发明内容

(一)要解决的技术问题

因而，本发明的目的在于提供一种透明导电光学片，该透明导电 光学片通过对ITO层的非蚀刻部与蚀刻部之间的反射光的差异进行 修改来提高不可见性，由此使所要显示的图像清晰度不会下降。

(二)技术方案

为了实现上述目的，本发明提供一种透明导电光学片，该透明导 电光学片具有依次层叠透明基层、第一折射率匹配层、第二折射率匹 配层、第三折射率匹配层及氧化铟锡(ITO)层的结构，所述ITO层 包括非蚀刻部和蚀刻部，所述第一折射率匹配层和第三折射率匹配层 对550nm波长的折射率均等于或者小于所述透明基层及ITO层，所述 第二折射率匹配层的厚度大于所述第一折射率匹配层和第三折射率 匹配层的厚度，所述透明导电光学片，测量对可视光区域的各波长的 ITO层的非蚀刻部及蚀刻部的反射率时，以下数学式1的△R值为 0～1.0，利用对D65光源的2°视野的反射光测量L*a*b*颜色坐标系的反 射色时，由以下数学式2表示的△ER值为0～6.0，

数学式1

$\mathrm{\Delta R}=\left(\underset{i}{\Sigma }\right|r_{1i}-r_{2i}\left|\right)/n$

在所述数学式1中，i表示可视光区域的各波长，r_1i表示各波长 的ITO层的非蚀刻部的反射率，r_2i表示各波长的ITO层的蚀刻部的 反射率，n表示测量波长的总数，

数学式2

$\mathrm{\Delta ER}=\sqrt{{({L*}_1-{L*}_2)}^2+{({a*}_1-{a*}_2)}^2+{({b*}_1-{b*}_2)}^2}$

在所述数学式2中，L*₁、a*₁及b*₁分别为ITO层的非蚀刻部的 反射色的L*、a*及b*，L*₂、a*₂及b*₂分别为ITO层的蚀刻部的反 射色的L*、a*及b*。

(三)有益效果

所述透明导电光学片通过所具有的各折射率匹配层的薄膜干涉 效果，对ITO层的非蚀刻部和蚀刻部的反射率和反射色的差进行修 正，使用户无法通过视觉识别非蚀刻部和蚀刻部，从而能够使下部显 示器上所要显示的图像清晰度不会下降。并且，由于所述透明导电光 学片在进行热处理时，ITO层的结晶率优异且尺寸变化率小，因此稳 定性和可靠性高，且由于具有优异的表面硬度，因此操作性高。因而， 所述透明导电光学片能够广泛利用于各种电子仪器的显示器面板中 应用的触摸屏面板领域。

附图说明

图1是表示本发明的透明导电光学片结构的一个典型例子的图。

图2是表示应用于显示面板的透明导电光学片的一个例子及反 射光的图。

附图说明标记

100：透明基层           200：ITO层

210：非蚀刻部           220：蚀刻部

300：显示面板           400：第一折射率匹配层

410：第二折射率匹配层   420：第三折射率匹配层

610：非蚀刻部的反射光   620：蚀刻部的反射光

具体实施方式

下面，根据本发明的具体实施例更加具体地说明。

参照附图1，本发明的一个实施例的透明导电光学片具有在透明 基层100上依次层叠第一折射率匹配层400、第二折射率匹配层410、 第三折射率匹配层420及ITO层200的结构。

并且，所述ITO层200包括非蚀刻部210和蚀刻部220。

根据本发明的另一实施例，在所述透明基层与第一折射率匹配层 之间可以包括一层或者两层以上的附加的折射率匹配层。

根据本发明的又一实施例，在所述ITO层与第三折射率匹配层之 间可以包括一层或者两层以上的附加的折射率匹配层。

下面，具体说明各结构层。

透明基层

透明基层是在本发明的透明导电光学片中位于最外围的层，起到 支撑体的作用。

对550nm波长的透明基层的折射率可以为1.50至1.70，还可以 进一步限定为1.60至1.70，可以再限定为1.63至1.67。折射率处于 所述范围时，折射率匹配层的薄膜干涉效果会更加优异。

并且，透明基层的厚度可以为2至250μm，还可以进一步限定为 2至188μm，可以再限定为2至125μm。厚度处于所述范围时，作为 TSP薄板使用时，由于厚度薄且加工型良好，因此实用性会更高。

并且，作为透明基层的主要成分可以为聚酯树脂、纤维素树脂、 丙烯树脂、聚碳酸酯树脂、环烯烃高分子(COP)树脂及这些树脂的 组合，作为更具体的例子，可以为聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)树 脂、三醋酸纤维素(TAC)树脂、聚碳酸酯(PC)树脂、聚甲基丙烯 酸甲酯(PMMA)树脂、环烯烃高分子(COP)树脂及这些树脂的组 合。

折射率匹配层

本发明的透明导电光学片包括具备不同折射率的三层折射率匹 配层(refractive index matching layers)，从而诱发薄膜干涉现象(thin  film interference)，对ITO层的非蚀刻部和蚀刻部的反射率和反射光 的差进行修正，从而降低其可见性，能够使下部显示面板上所要显示 的图像清晰度不会下降。

三层的折射率匹配层是在透明基层上依次层叠第一折射率匹配 层、第二折射率匹配层和第三折射率匹配层。

所述三层折射率匹配层中的所述第一折射率匹配层及第三折射 率匹配层对550nm波长的折射率均等于或者小于所述透明基层及 ITO层。并且，优选地，所述第二折射率匹配层的折射率高于第一折 射率匹配层及第三折射率匹配层的折射率。

更加具体地，基层、第一折射率匹配层、第二折射率匹配层、第 三折射率匹配层及ITO层的折射率之间关系如下。

首先，所述第一折射率匹配层及第三折射率匹配层对550nm波 长的折射率可以相近或者相同，例如，其折射率差可以为0.15以下。

并且，优选地，所述第二折射率匹配层对550nm波长的折射率， 分别与所述第一折射率匹配层和第三折射率匹配层的折射率相比，其 折射率差为0.01至0.165。

并且，所述透明基层与所述第一折射率匹配层及第三折射率匹配 层比较时，与对550nm波长的折射率可以相同或者比其大0.01至 0.16。

(1)第一折射率匹配层

第一折射率匹配层层叠在透明基层上，起到诱发薄膜干涉现象同 时提高透明基层和第二折射率匹配层的粘结力的作用。

优选地，第一折射率匹配层对550nm波长的折射率低于透明基 层的折射率。

例如，第一折射率匹配层的折射率可以为1.5至1.66，还可以进 一步限定为1.52至1.66，可以再限定为1.63至1.66。折射率处于所 述范围时，薄膜干涉效果会更好。

并且，第一折射率匹配层的厚度可以为50nm至150nm，还可以 进一步限定为60nm至120nm，可以再限定为70nm至90nm。厚度处 于所述范围时，薄膜干涉效果会更好，而且与第二折射率匹配层的粘 结会更好。

并且，可用于第一折射率匹配层的主要成分的树脂有胺基甲酸酯 丙烯酸酯树脂、环氧丙烯酸酯树脂、聚酯树脂及这些树脂的混合树脂 等。

为了调节折射率，在所述第一折射率匹配层上还可以进一步添加 选自ZrO₂、TiO₂、ZnO₂、Sb₂O₃、Sb₂O₅、ATO(antimony tin oxide)、 AZO(antimony zinc oxide)、PTO(phosphorous tin oxide)及这些成 分的组合的粒子。以第一折射率匹配层中使用的原料树脂的固体含量 100重量份计，所述添加的粒子含量可以为30至100重量份。

并且，在所述第一折射率匹配层上可以添加硅类流平剂，以第一 折射率匹配层中使用的原料树脂的固体含量100重量份计，所述硅类 流平剂的含量可以为0.1至2.0重量份。

(2)第二折射率匹配层

第二折射率匹配层层叠在所述第一折射率匹配层上，且具有大于 第一折射率匹配层和第三折射率匹配层的折射率，从而起到诱发薄膜 干涉现象的作用。

优选地，第二折射率匹配层对550nm波长的折射率大于所述第 一折射率匹配层的折射率。

例如，所述第二折射率匹配层的折射率可以为1.60至1.68，还 可以进一步限定为1.62至1.68，可以再限定为1.64至1.68。折射率 处于所述范围时，与第一折射率匹配层及第三折射率匹配层的薄膜干 涉现象会更好。

并且，第二折射率匹配层的厚度可以为0.6至3.0μm。厚度处于 所述范围时，具有提高硬度的优点。

所述第二折射率匹配层的厚度大于所述第一折射率匹配层和第 三折射率匹配层的厚度。例如，优选地，所述第二折射率匹配层的厚 度为所述第一折射率匹配层和第三折射率匹配层的厚度的约40倍至 200倍。

并且，可用于第二折射率匹配层的主要成分的树脂有聚氨酯丙烯 酸酯树脂、环氧丙烯酸酯树脂、密胺树脂及这些树脂的混合树脂等。

与此同时，为了调节折射率，在第二折射率匹配层上还可以进一 步添加选自ZrO₂、TiO₂、ZnO₂、Sb₂O₃、Sb₂O₅、ATO(antimony tin oxide)、 AZO(antimony zinc oxide)、PTO(phosphorous tin oxide)及这些成 分的组合的粒子。以第二折射率匹配层中使用的原料树脂的固体含量 100重量份计，所述添加的粒子含量可以为50至150重量份。

并且，在所述第二折射率匹配层上可以添加硅类流平剂，以第二 折射率匹配层中使用的原料树脂的固体含量100重量份计，所述硅类 流平剂的含量可以为0.1至2.0重量份。

(3)第三折射率匹配层

第三折射率匹配层层叠在所述第二折射率匹配层上，起到诱发薄 膜干涉现象的同时有助于ITO的结晶化的作用。制作透明导电光学片 时，为了将ITO层结晶化，在最后步骤中可以进行热处理工序，在这 种热处理工序中，由于残留的单体、低聚物及微细有机物从透明从透 明基层、第一折射率匹配层及第二折射率匹配层转移到ITO层，因此 会降低ITO层的结晶化。然而，第三折射率匹配层可阻止这样的转移， 因此有助于ITO层的结晶化。

优选地，第三折射率匹配层对550nm波长的折射率低于第二折 射率匹配层的折射率。

例如，所述折射率可以为1.3至1.6，还可以进一步限定为1.40 至1.55，可以再限定为1.45至1.52。折射率处于所述范围时，薄膜 干涉效果会更好。

并且，第三折射率匹配层的厚度可以为5至20nm，还可以进一 步限定为10至20nm。厚度处于所述范围时，防止阻碍ITO结晶化的 因子从包括第二折射率匹配层的下部层转移的效果会更好。

并且，可用于第三折射率匹配层的主要成分的原料可以是二氧化 硅、硅、氧化铝、氟化镁(MgF₂)及这些成分的混合物。

(4)附加的折射率匹配层

在所述透明导电光学片上除了包括所述第一至第三折射率匹配 层外，还可以包括附加的折射率匹配层。所述附加的折射率匹配层可 以为一层或者2层以上，并且这些附加的折射率匹配层可以位于透明 基层与第一折射率匹配层之间，或者可以位于ITO层与第三折射率匹 配层之间。

所述附加的折射率匹配层对550nm波长的折射率可以低于所述 透明基层和ITO层的折射率。

所述附加的折射率匹配层可以由与第一至第三折射率匹配层的 成分相同或者不同的成分构成。

作为一个例子，可以在所述透明基层与第一折射率匹配层之间包 括附加的一层折射率匹配层，此时，所述附加的折射率匹配层对 550nm波长的折射率可以低于所述透明基层和ITO层的折射率，且大 于或者小于第一折射率匹配层的折射率。

ITO层

在本发明的透明导电光学片中，ITO层是位于透明基层的相反面 的最外围的层，起到赋予导电性的作用。

所述ITO层包括非蚀刻部和蚀刻部。由此，所述ITO层可以是 非连续的平面形状。并且，所述非蚀刻部或者蚀刻部可以构成图案。

所述ITO层可以包含2至15重量％的氧化锡。氧化锡的含量处 于所述范围时，透明性会更好，在触摸屏面板的感应层上可以得到更 合适的面电阻。

为了提高结晶率，所述ITO层可以是经过热处理的ITO层，经 过热处理的ITO层对550nm波长的折射率可以为1.7至2.0，还可以 进一步限定为1.8至1.95，可以再限定为1.825至1.90。折射率处于 所述范围时，第二折射率匹配层及第三折射率匹配层之间的薄膜干涉 现象会更好。

并且，ITO层的厚度可以为10至40nm，厚度处于所述范围时， 透射率会更好。或者，根据使用目的通过调整厚度来改变面电阻。

参照图2进行说明，所述透明导电光学片通过层叠在透明基层 100上的第一折射率匹配层400、第二折射率匹配层410及第三折射 率匹配层420的薄膜干涉效果，对最外围ITO层200的非蚀刻部210 的反射光610及蚀刻部220的反射光620之间的反射色及反射率的差 进行修正，从而能够使在下部的显示器面板300上要显示的图像清晰 度不会下降。

(1)光学特征

所述透明导电光学片，由以下数学式1表示的△R值满足0～1.0。

数学式1

$\mathrm{\Delta R}=\left(\underset{i}{\Sigma }\right|r_{1i}-r_{2i}\left|\right)/n$

在所述式中，

i表示可视光区域的各波长，

r_1i表示各波长的ITO层的非蚀刻部的反射率，

r_2i表示各波长的ITO层的蚀刻部的反射率，

n表示测量波长的总数。

并且，所述透明导电光学片，利用相对于D65光源的2°视野的 反射光测量L*a*b*颜色坐标系的反射色时，由以下数学式2表示的 △ER值满足0～6.0。

数学式2

$\mathrm{\Delta ER}=\sqrt{{({L*}_1-{L*}_2)}^2+{({a*}_1-{a*}_2)}^2+{({b*}_1-{b*}_2)}^2}$

在所述式中，

L*_1、a*₁及b*₁分别为ITO层的非蚀刻部的反射色的L*、a*及b*，

L*₂、a*₂及b*₂分别为ITO层的蚀刻部的反射色的L*、a*及b*。

△R值及△ER值处于所述范围时，修正ITO层的非蚀刻部和蚀刻 部之间的光学特性，使可视光区域的反射率差达到最小，由此能够提 供难以视觉识别ITO层的非蚀刻部和蚀刻部的光学片。

并且，优选地，所述透明导电光学片，根据以下数学式3的外观 匹配度为99～101。

数学式3

在上述式中，

n₀、n₁及n₂分别表示透明基层、第一折射率匹配层及第二折射率 匹配层对550nm波长的折射率。

外观匹配度值处于所述范围时，能够更好地抑制外部光源的反射 光中发生像浮游形状的颜色不匀现象。

(2)电学特征

所述透明导电光学片可以具有50至500Ω/□范围的面电阻。

根据一个实施例，所述透明导电光学片可以是未经过热处理的透 明导电光学片，此时，所述透明导电光学片的面电阻R₀可以为250 至400Ω/□，将该透明导电光学片在120℃至160℃的温度范围内进行 30分钟至90分钟的热处理时的面电阻R₁可以为130至160Ω/□。这 可解释为，通过热处理，铟、锡及氧会重新排列，从而改善电子移动 率。并且，进行所述热处理前/后的面电阻比例R₁/R₀可以为0.325至 0.64Ω/□。所述R₁/R₀比例处于所述范围时，热处理过程中的ITO层 的铟、锡及氧的排列最稳定，因此ITO层的稳定性会更好。

根据另一个例子，为了ITO层的结晶化，所述透明导电光学片可 以是经过热处理的透明导电光学片，例如，可以是在120℃至160℃ 的温度范围内进行30分钟至90分钟热处理的透明导电光学片。此时， 所述经过热处理的透明导电光学片的面电阻R₁可以为130至 160Ω/□，将该透明导电光学片用5％硫酸溶液处理10分钟时，面电 阻R₂可以为130至192Ω/□。并且，用所述5％硫酸溶液处理前/后的 面电阻比例R₂/R₁值可以为1.0～1.2，即用5％硫酸溶液处理10分钟时 的面电阻增加比例小于20％。所述R₂/R₁比例处于所述范围时，经过 热处理的ITO层的结晶率及稳定性会更好。

(3)机械/热特征

所述透明导电光学片可以具有根据JIS K-5600使用H铅笔来对 所述ITO层外表面进行5次表面硬度测试时，表面均没有受损的硬度。

并且，在所述透明导电光学片为未经过热处理的透明导电光学片 的情况下，将该透明导电光学片在120℃至160℃的温度范围内进行 30分钟至60分钟的热处理时，根据以下数学式4的热处理前/后的尺 寸变化率在纵向(MD)上表现为0.5％以下，在横向(TD)上表现 为0.3％以下。

数学式4

尺寸变化率(％)＝(热处理前尺寸－热处理后尺寸)/热处理前 尺寸×100

本发明的一个实施例的透明导电光学片的制作可以包括以下步 骤：(a)准备透明基层；(b)形成第一折射率匹配层；(c)形成第二 折射率匹配层；(d)形成第三折射率匹配层；(e)沉积ITO层；及(f) 蚀刻ITO层。

各步骤可以通过本发明所属的技术领域中的常规方法，例如通过 涂布树脂溶液的涂布方法，通过溅射的沉积方法等来实施。

在实施步骤(a)至(e)后，为了提高ITO层的结晶率，优选进 一步实施热处理，或者还可以在实施步骤(a)至(f)后进一步实施 热处理。所述热处理是例如可以在120℃至160℃的温度范围内实施 30分钟至90分钟。

步骤(f)的实施可以是在所述ITO层上通过丝网、凹版或者喷 墨方式将蚀刻液按所需图案直接涂布来对ITO层进行部分蚀刻，或者 还可以是通过丝网、凹版或者喷墨方式按所需图案形成光致抗蚀膜 后，用蚀刻液等对ITO层进行部分蚀刻。

实施例：具有折射率匹配层的透明导电光学片的制作(薄片1 至12)

步骤1：准备透明基层

使用550nm波长情况下折射率(n)为1.634～1.663，厚度为125μm 的PET透明材料。

步骤2：形成第一折射率匹配层

混合5.5重量份的热固化型丙烯类树脂(A811，爱敬化学公司)、 0.3重量份的聚异氰酸酯类固化剂(DN980S，爱敬化学公司)、47.1 重量份的用于稀释的二甲苯(xylene)及47.1重量份的乙酸丁酯(butyl  acetate)后，在该混合溶液中按照其混合溶液的每固体含量100重量 份添加50～80重量份的二氧化锆(ZrO₂，JGC公司)的标准进一步添 加了二氧化锆。将获取的混合溶液涂布在所述透明基层上，并进行干 燥及热固化来形成在550nm波长情况下，折射率为1.573～1.657，厚 度为70～85nm的第一折射率匹配层。

步骤3：形成第二折射率匹配层

混合15重量份的UV固化型低聚物(DPHA，味元 社)、5重量份的季戊四醇三丙烯酸酯(PETA，味元 社)、4重量份的稀释用单体(SR499，Satomer公司)、1重量份的 UV固化用光引发剂(Irgacure-184，BASF公司)、37.5重量份的用于 稀释的甲基乙基甲酮(MEK)及37.5重量份的甲基异丁基甲酮 (MIBK)后，在该混合溶液中按照其混合溶液的每固体含量100重 量份中添加100～150重量份的氧化锆(ZrO₂，JGC公司)的标准进一 步混合了二氧化锆。将获取的混合溶液涂布在所述第一折射率匹配层 上，并进行干燥及UV固化来形成550nm波长情况下折射率为 1.60～1.675，范围为0.6～3.0μm的第二折射率匹配层。

步骤4：形成第三折射率匹配层

在所述第二折射率匹配层上真空溅射二氧化硅(SiO₂)来进行沉 积，由此形成550nm波长情况下折射率(n)为1.45～1.52，厚度为 10～20nm的第三折射率匹配层。

步骤5：沉积ITO层

在所述第三折射率匹配层上通过真空溅射来沉积含有7重量％的 氧化锡的ITO。

步骤6：对ITO层进行热处理

将沉积所述ITO层的薄片在120℃～160℃的温度范围内进行 30～90分钟的热处理。

结果形成了对550nm波长的折射率为1.825～1.90，厚度为25nm 的ITO层。

步骤7：蚀刻ITO层

在所述ITO层上通过丝网、凹版或者喷墨方式形成线型或者钻石 型格子花纹的光致抗蚀膜，在25℃及5重量％的盐酸溶液中浸泡1 分钟后，用超纯水(DI)清洗，对ITO层进行部分蚀刻。

下面的表1中整理了具有各种折射率及厚度组合的折射率匹配 层的透明导电光学片(薄片1至12)的组成。

实验例1：评价△R值

对于透明导电光学片，使用测量仪器(U4100，Mitsubishi公司) 测量可视光区域(380～780nm)的各波长的反射率。此时，为了消除 由内部反射造成的干扰，将透明基层的外表面印刷成黑色后进行测 量。利用测量值并根据前述的数学式1得出了△R值。

实验例2：评价△ER值

对于透明导电光学片，使用测量仪器(U4100，Mitsubishi公司) 测量表现为相对于D65光源的2°视野的色坐标的反射色。此时，为 了消除由内部反射造成的干扰，将PET材料的外表面印刷成黑色后 进行测量。利用测量值并根据前述的数学式2得出了△ER值。

实验例3：评价外观匹配度

对于透明导电光学片，根据前述的数学式3得出了外观匹配度。

实验例4：评价面电阻

对于透明导电光学片，首先，在热处理之前的状态下测量面电阻， 并将此时的测量值作为R₀。接着，在150℃的温度下进行60分钟的 热处理，将ITO层结晶化之后测量面电阻，并将此时的测量值作为 R₁。最后，用5％硫酸溶液处理10分钟后测量面电阻，并将此时的测 量值作为R₂。在这些测量值的基础上，计算R₁/R₀的比例及R₂/R₁比 例。

实验例5：评价表面硬度

透明导电光学片ITO层的表面硬度按照以下，即根据JIS-K5600 的程序(Mitsubishi pencil H公司用)测量5次时未发生划痕的次数 的比例来进行评价。

实验例6：评价热处理前/后的尺寸变化率

对于透明导电光学片的纵向(MD)及横向(TD)，测量用于ITO 层结晶化的热处理前/后的尺寸，并根据前述的数学式4得出了尺寸 变化率。

在下面的表1及表2中整理了上述实验例的评价结果。

表1

表2

从上述表1可知，在所制作的薄片中，薄片5、6、11及12的情 况表示处于本发明所要求的范围内，即△R值为1.0以下，以及△ER 值为6.0以下。特别是，薄片5及11情况下，还表示其外观匹配度 的值为99％至101％。

并且，从上述表2可知，薄片1至12均表示具有良好的面电阻 特性，这说明ITO层通过热处理后具有良好的结晶化特性。