用于事后全息标记的方法以及用于事后全息标记的半成品和设备

摘要

本发明涉及一种用于事后全息地标识复合体(1)的设备(100)以及一种相应的方法，所述方法包括以下步骤：提供或制造复合体(1)，所述复合体包括至少在一个区域(7)中感光的全息图层(3)；将复合体(1)布置在保持装置(101)上或保持装置中；以相干光(162)曝光复合体(1)，所述相干光在全息图层(3)的感光区域(7)中干涉，以便全息信息曝光到全息图层(3)的感光区域(7)中；在全息图层(6)中定影已曝光的全息图。为了能够实施高质量的接触拷贝，在此提出，使用构造为薄膜的母版(130)，所述母版施加到复合体(1)的前侧(12)上。

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于事后全息标识用于安全文件的复合体的方法以及 所述可以随后标识的复合体，以及一种用于实施标识的相应设备。

背景技术

由现有技术已知，制造具有构造为复合体的文件体的安全文件。现代 的安全文件例如制造为层压复合体，其中多个衬底层相互层压成复合体。 多个衬底层例如可以是塑料层、尤其PVC、聚碳酸酯或者类似的热塑性塑 料层或者也包括纸层等等。在这种复合体中可以集成多个安全文件和安全 特征。

称作安全特征的是以下特征：所述特征通过其他特征防止、妨碍特征 或对象的未经授权的仿制、复制、伪造或仿造或者使之不能实现，安全特 征构造在所述对象中。称作安全文件的是安全特征的具体构造。根据所述 定义，每一个安全文件也是安全元素。

由现有技术已知多种安全特征和安全元素，它们包括例如纸中的水印、 特定的印刷方法、特定的印刷油墨的应用、电子电路的集成、全息和衍射 结构的压印或引入。一种类型的安全特征因此涉及集成到复合体中的全息 图。一组全息图包括构造为所谓的薄的全息图并且其在安全文件中的结构 深度位于以下光的波长的数量级中的全息图：借助所述光可以复现全息图 结构(Hologrammstruktur)。首先，所谓的压印全息图和表面全息图属于所 述全息图，其中全息图结构存储在复合体的表面浮雕中。所述结构可以事 后集成到其他完成的复合体中或者完成的安全文件中。然而，所述结构仅 仅可以非常困难地用于个人标识，因为引入通常通过压印冲头 ()实现。曝光和随后的显影(其中构造表面结构)是非常耗 费的并且不适于大规模制造。此外，与布置在内部的全息图相比在损坏方 面更差地保护表面全息图。此外通常普遍的是，例如也镜像所述压印全息 图或者设置有保护涂覆层。因此，在压印之后需要另外的加工步骤。也可 能的是，将全息图以补丁(Patches)的形式引入到具有相应制造的全息图 的安全文件中。

与此相反，好得多地保护免受操作并且更简单地设置有个人标识的是 曝光到感光层中的全息图。通常，所述全息图构造为所谓的体积全息图 (Volumenhologramme)。所述体积全息图具有高的角度选择性和波长选择 性，所述体积全息图例如能够实现借助白光的好的可复现性。所述体积全 息图的制造通常通过使用例如以胶片形式的记录材料来实现，所述胶片适 于存储干涉结构，所述干涉结构的有特征的尺寸位于用于全息图的记录或 者复现的光的光波长的范围中。对于大规模制造而言，所谓的接触式复印 方法证实为适合的，其中全息胶片设置在母版(Master)前方，其中构造 应当传输到全息胶片中的衍射结构和/或光偏转结构。因此在所述方法中， 将母版的衍射结构拷贝到全息胶片中。因为要拷贝的或者要产生的干涉结 构在用于制造并且复现的光的光波长范围中具有典型的尺寸、即通常具有 数百纳米范围中的结构大小，所以需要使胶片在曝光期间处于静止并且例 如不振动。因此已经证实为有利的是，将胶片与母版接触地布置在所述母 版前方，所述母版布置或者构造在刚性载体、例如玻璃板、金属板等等上。 为了拷贝例如体积反射全息图结构，相干的光通过布置在母版前方附近并 且尤其如所描述的那样与母版接触布置的胶片辐射到母版上。母版中的衍 射结构或者反射结构如此衍射或者反射光，使得经衍射或者经反射的光反 射回全息胶片中。在那里，经衍射或者经反射的光与用于曝光母版的相干 光进行干涉。因此，在全息胶片中构造干涉结构，所述干涉结构通过在母 版上衍射的光来确定。所显影的胶片的全息复现与在曝光母版时观察的全 息复现相同。因此，在全息胶片中存储全息图，所述全息图也称作Denisyuk 全息图并且是体积反射全息图。理解为，入射光必须具有一个适合的波长 (或者多个适合的波长)和一个适合的入射方向(或者多个适合的入射方 向)，从而在母版的衍射结构上以期望的方式实现衍射。

母版的示例性制造以及接触式复印方法自身例如在EP 0 896 260 A2中 描述。在那里所描述的作为衍射结构的实施方式中，母版包括磨砂玻璃 (Mattscheibe)的体积反射全息图。如果在接触式复印方法期间空间调制 用于曝光的相干光，则由此可以将包含在空间调制中的信息、例如面像 (Gesichtsbild)存储到所曝光的全息图中。根据空间调制，磨砂玻璃的一 个区域在曝光时复现并且因此曝光或者不曝光到构造在全息胶片中的全息 图中。通过如此实施的空间强度调制可以如此曝光全息图结构，使得不同 的地点具有不同的衍射效率。因此，能够以在复现时得到的不同亮度级(灰 度级)存储面像信息。

由现有技术已知不同的空间光调制器。为此，例如可以使用所谓的数 字微镜设备(DMD)，所述数字微镜设备包括受控制的微镜。同样可能的 是，极化相干光并且使用液晶单元来控制地调制光。液晶单元具有穿透的 光与开关状态相关地不同变化的特性。因此，通过连接在后方的极化滤波 器或者极化相关的镜或者分束器可以根据液晶单元的开关状态来影响光传 播。如果例如在LCD显示器中使用多个液晶单元，则可以同时在其空间延 展中不同地空间调制已扩展的光束。

所谓的硅上液晶调制器(LcoS-Modulatoren)证实为除DMD调制器以 外特别适合的，其中液晶单元布置在硅层前方，所述硅层将穿过液晶单元 的光通过所述液晶单元反射回。根据开关状态，再次不同地影响光在各个 单元中的极化状态。因此，在极化方面空间调制反射的光。如果所述光引 导通过极化相关的分束器或者极化滤波器，则输出的光束也在其强度方面 调制。具有预定的极化状态的光份额可以经过分束器或者极化滤波器，与 此相反具有与预定的极化状态正交的极化状态的光份额被吸收或者偏转。

尤其当已经个性化全息图时，将如此曝光到胶片中的全息图输送给复 合体制造。如果在复合体制造中除可能个人化的全息图胶片以外使用已经 个人化的半成品，则需要各个半成品的准确协调和分配。如果在半成品的 一个中出现制造误差，则这通常也导致所分配的全息图中的次品，因为由 于技术原因在生产中通常不能实现已曝光的全息图从胶片带的单独移除。 因此，例如错误印刷的衬底层通常导致必须重复整个文件的制造，包括全 息图的重新制造，在所述衬底层中印有个人的个性化信息，所述个性化信 息与同一人的所个性化的全息图相关联。然而，即使仅仅所述全息图个人 化并且与没有个人化的其他半成品结合成复合体并且仅仅在应用全息图之 后才在复合体上或者复合体中实施文件坯件的标识和个人化，也得到相同 的问题，只要在所述随后标识步骤和/或个人化步骤中出现误差。

由DE 25 58 056 A1已知一种用于通过借助对象射束和参考射束在感光 的记录材料上记录承载信息的对象的全息图来制造辨识载体的方法，其中 感光的记录材料在全息曝光之前固定地且持久地与承载信息的对象复合成 辨识载体，并且将由对象反射的对象射束引导到记录材料上并且在所述记 录材料上借助参考射束干涉成要记录的信息的全息图。

由公开文献DE 28 53 893还已知一种用于制造辨识卡的方法，所述辨 识卡由多个层构造，其中设置有一个或多个光图像并且设置有数据块的模 型电子摄像地在记录载体上成像、显影并且传输到作为卡芯的层材料上， 使得逐行完成的卡芯放置在中间存储器中并且从那里传送给层压机，在所 述层压机中其以由聚合材料构成的下方和上方的透明保护薄膜层压成辨识 卡坯件。

在文献DE 10 2007 052 952 A1中描述了用于制造作为安全特征的全息 图的方法和设备以及一种全息图和具有这种全息图的安全文件。此外，描 述了用于验证全息图或者具有这种全息图的安全文件的方法和设备。提出 一种具有水印状结构的全息图，所述全息图使在复现入射角下入射的光在 复现时以复现出射角反射和/或衍射，其中全息图包括至少两个区域，它们 将入射的光从围绕所述复现入射角的不同大的角范围反射到围绕所述复现 出射角的相应的不同大的角范围中。

由5,583,668 A描述了一种用于在全息图母版上固定地定位全息记录层 压的技术，其利用静电电荷来在全息图母版上固定全息记录材料。

由US 4,715,670 A已知一种用于拷贝全息衍射光栅的方法，其中母版 光栅和拷贝光栅刚性地彼此邻接地固定并且使用可移动的镜，以便逐渐地 曝光全息图。

发明内容

因此本发明的任务是，说明一种借助全息图、尤其个人化的全息图来 制造复合体的标识的改善方法以及一种适于所述方法的设备和一种适合的 复合体。

本发明所基于的构思在于，在复合体中首先集成感光衬底层，所述感 光衬底层在复合体的构造之后至少在一个区域中可以一如既往地通过激光 图形地标记。这意味着，集成到复合体中的感光衬底层至少在一个区域中 在集成到复合体中之后是感光的并且可以全息曝光，并且所曝光的全息图 可以通过简单的方式显影和/或定影。为了将所述全息图曝光到感光层中， 使用构造为薄膜的母版，所述母版与所述复合体的前侧贴靠地施加到复合 体上。构造为薄膜的母版与复合体的良好的可匹配性确保全息图在复合体 中的高质量的制造。母版包括至少一个影响光传播的结构。所述影响光传 播的结构优选可以包括或者是全息图。然而也可使用衍射的或者影响光传 播的其他结构、例如由单独的反射的磨光面(Facetten)组成的结构等等。 作为薄膜的构造是必要的，以便能够以最优的方式实现与复合体的前侧的 匹配。

优选实施方式：

为了在不必须忍受全息图自身的质量损失的情况下实施全息图自身的 随后曝光，提出以下方法和设备：其中在集成有感光层的复合体上施加应 当拷贝其光学结构的母版、例如包括至少一个全息图的母版，其中所述母 版以薄膜的形式、例如以借助全息图曝光的胶片的形式构造并且因此可以 与复合体匹配。尤其提出用于事后全息标识用于安全文件的复合体的方法， 所述方法包括如下步骤：提供或者制造包括至少在一个区域中感光的全息 图层(Hologrammschicht)的复合体；将复合体布置在保持装置上或者保持 装置中；以相干辐射曝光复合体，所述相干辐射在全息图层的感光区域中 进行干涉，以便将全息信息曝光在全息图层的感光区域中；将已曝光的全 息图定影在全息图层中。

所述母版优选包括至少一个全息图。所述母版例如可以是具有构造在 其中的体积全息图的胶片。然而，其他全息图类型或者多个全息图以及全 息图类型、例如表面和体积全息图的组合也是可能的。所曝光的胶片是薄 膜。

相应的复合体是由多个材料层构成的复合体，所述复合体具有至少在 一个区域中是感光的并且适于全息图的曝光的材料层。

复合体优选涉及安全文件坯件，所述安全文件坯件除个人划化以外是 实体上完成的安全文件。如有必要，当安全文件坯件涉及通行卡坯件时， 附加地还需要嵌入到小册子中。

复合体优选具有刚性，使得在复合体支承在两个彼此相对置的侧棱边 上期间，在重力的作用下不出现前侧的变形。用于ID1至ID3格式的安全 文件的通常的复合体具有所述特征，所述安全文件基于塑料或者主要基于 塑料制造。

相应的用于全息地标识用于安全文件的复合体的设备包括：用于接收 复合体的保持装置；曝光装置，所述曝光装置提供用于曝光集成在要标识 的复合体中的至少在一个区域中感光的全息图层的相干光，其中曝光装置 构造成将光朝向布置在保持装置中或者保持装置上的复合体定向。本发明 的特别的优点是，全息曝光可以集成到标准的生产过程中。

在一种特别优选的实施方式中，将母版的影响光传播的结构引入到复 合体中作为全息信息的一部分。为此设置，构造并且提供作为薄膜的母版。 这提供以下优点：与此外通常的接触式拷贝技术(其中胶片施加在母版上) 相比，在这种情形中将母版施加到要曝光的工件、在此复合体上。在此决 定性的是，提供为薄膜的母版具有能够与复合体的表面匹配的特征。因为 即使不仅复合体而且母版构造为具有平的表面的物体，所以对于接触式拷 贝方法而言不能建立最优接触。已经示出，刚性的且非柔性的物体的两个 平面的表面通常不能最优地彼此接触，而在此其间不出现气泡 (Gaseinschlüsse)或者由于表面不平整性等等不出现表面的轻微变化的间 距。然而，所述气泡或者变化的间距对于母版结构的拷贝过程不利。如果 母版构造为薄膜，如其在此所提出的那样，则可以消除这些在布置两个刚 性的表面时出现的问题。对用于安全文件的复合体的表面特性仅仅提出与 对完成的安全文件相同的要求，并且例如所出现的材料公差等等通过构造 为薄膜、例如构造为曝光胶片的全息母版来均衡。

一种优选的方法因此设置，与复合体的前侧贴靠地施加构造为薄膜的 母版，其中母版包括至少一个影响光传播的结构并且所述影响光传播的结 构在曝光到全息图层的感光区域中时拷贝为接触拷贝。因此设备设置，设 置有母版施加设备，其用于将构造为薄膜的包括影响光传播的结构的母版 放置到布置在保持装置中的复合体的前侧上。

尤其将全息图结构、特别优选地体积全息图结构考虑为影响光传播的 结构。所述体积全息图例如可以涉及散射玻璃或者磨砂玻璃的体积全息图。 然而同样可能的是，也利用非衍射的结构、例如由单独的反射的磨光面组 成的结构、例如锯齿镜，如其在DE 20 2007 006 796 U1中所描述的那样。

母版尤其可以涉及构造为薄膜的多层体，其中例如多个不同的全息胶 片彼此层叠地复合成母版胶片。为此基本上，母版具有比复合体改善得多 的表面可匹配性，由所述复合体制造安全文件。因此，在相同的力耗费的 情况下，母版例如可以无损坏地比相应的复合体更强烈地弯曲。典型的复 合体(如其当今用于安全文件的那样)例如仅仅具有相当小的弯曲能力。 所述复合体例如通常由多个聚碳酸酯层制造，所述聚碳酸酯层在约760μm 的总复合厚度的情况下具有所述刚性，当安全文件与地面平面平行地定向 地保持时，只要安全文件保持在短的侧棱边上，标准大小ID1的例如由此 制造的安全文件在重力场中几乎不具有弯曲。

然而在相同的大小时，构造为薄膜、例如构造为曝光胶片的母版采用 显著弯曲的表面形状并且必要时折弯(abknicken)。

已经证实为特别有利的是，构造为薄膜的母版借助轧辊在曝光之前压 紧到复合体上。由此确保，在母版和复合体之间形成紧密的接触。通过轧 辊的使用可以确保，可靠移除可能存在的气泡。因此，所述设备的一种优 选实施方式设置，设置有可控制的可移动的轧辊，所述轧辊构造用于在施 加母版之后或者在将母版施加到复合体的前侧上时将母版通过轧辊的滚动 压紧到所述前侧上。

在曝光到复合体中的透射全息图结构中存在用于复现的光可以传输通 过复合体的必要性期间，在构造反射全息图时必要的是，复合体对于以下 光波长是透明的：借助所述光波长实现全息图的曝光。在此要注意的是， 实施曝光的波长和可实施复现的波长通常细微地不同，因为在将全息图曝 光到全息图层中之后进行的显影步骤和/或定影步骤中通常发生材料的收 缩，所述收缩也引起所曝光的干涉结构的大小变化。所述大小变化伴随用 于曝光的光和可用于复现的光之间的“波长移位”。

当复合体分别对于环绕相应的曝光波长或者复现波长的窄带的波长范 围是透明的时是足够的。因此，根据一种实施方式，如此制造或者提供复 合体，使得复合体在全息图层的感光区域所布置的区段中对于至少一个波 长是透明的并且借助所述波长的通过复合体的背侧的相干光实现复合体的 曝光，所述背侧背向于前侧，在所述前侧上施加有母版并且至少一个影响 光传播的结构反射至少一个波长的光，在全息图层的感光区域中与自身进 行干涉，以便将全息信息曝光到全息图层的感光区域中。在所述实施方式 中，产生存储在卡片体中的体积反射全息图。在另一种实施方式中如此提 供复合体，使得复合体在全息图层的感光区域的区段中对于以下至少一个 波长透明：借助所述波长可以在定影步骤之后复现已曝光到复合体中的全 息图。在此，通过复合体的前侧、例如通过所施加的母版实现曝光。

在一种实施方式中，为了进行个人化标识，借助空间光调制器调制相 干光。相应的设备因此设置，曝光装置包括空间光调制器形式的个人化装 置。由现有技术已知不同的空间光调制器，它们例如构造为所谓的LCoS(硅 上液晶)、LCD显示屏或者数字镜设备，在微镜的情况下设备是可以控制的。 对于本领域技术人员而言，已知用于空间光调制的不同方法和可能性，从 而在此不对其进行详细描述。

在本发明的一种实施方式中设置，为了实现复合体和/或提供为例如以 曝光胶片形式的薄膜的母版的好的固定，复合体布置在构造在保持装置中 的抽吸孔上，在所述抽吸孔中相对于保持装置的周围环境压力实现负压， 以便复合体保持和/或固定在保持装置上并且在曝光之后在抽吸孔处引起相 对于周围环境压力的压力均衡或者过压并且从保持装置移除复合体。附加 地或替代地，也可以在保持装置中与空隙相邻地设置抽吸孔，在所述空隙 中布置复合体所。由此可能的是，替代地或附加地也抽吸并且固定布置在 复合体的前侧上的构造为薄膜的母版。

在一种实施方式中，实现抽吸孔处的负压的产生，所述抽吸孔时间错 开地且与轧辊的运动相关联地抽吸构造为薄膜的全息母版，所述轧辊将薄 膜压紧到复合体上。负压仅仅在保持装置的以下那些区域中产生：全息胶 片已经通过轧辊压紧向所述区域。

已经证实为特别有利的是，构造为例如以曝光胶片形式的薄膜的母版 不仅直接贴靠在复合体的前侧上而且附加地贴靠在保持装置的支承面上。 因此，在一种优选的实施方式中，保持装置包括具有与复合体的形状匹配 的空隙的平的支承面。此外，当在支承面的空隙中布置贴靠板时是有利的， 其中可以定位贴靠板平行于支承面的表面法线，使得借助与前侧相对置的 背侧贴靠地布置在贴靠板上的复合体的前侧与支承面齐平。因此，位于空 隙中的贴靠板可以如此均衡复合体的材料强度波动，使得复合体的前侧分 别与支承面平齐地封闭。因此优选地，复合体布置在支承板的空隙中，其 中所述空隙与复合体的形状匹配并且如此实现所述布置，使得复合体的前 侧与支承面齐平。位于空隙中的贴靠板例如可以构造为可移动的压模。

已经证实为特别有利的是，制造具有平面延展的构造为薄膜的母版， 所述平面延展大于复合体的前侧在感光区域上的平面延展，从而构造为薄 膜的母版在施加到复合体的前侧上之后部分贴靠在保持装置的支承面上。 优选地，母版环绕复合体的外轮廓朝向支承面贴靠。

为了将反射体积全息图曝光到全息图层中，需要的是，支承板具有横 向于贴靠面穿透贴靠板的空隙或者对于光的至少一个波长是至少部分面透 明的，所述光由用于曝光的曝光装置提供。贴靠板例如可以由透明材料、 例如玻璃等等制造并且在环绕的边缘上具有保持结构，通过所述保持结构 可以实现整个贴靠板相对于支承面的表面的高度调节。

全息信息的曝光通常不同时全面地实现而是通过要拷贝的母版与相干 光的扫描的交叠(überstreichen)实现。因此在一种实施方式中，曝光装置 包括偏转装置，所述偏转装置实现相干光在保持装置的区域上的交叠，所 述区域设置用于接收复合体并且如有必要附加地通过空间光调制器引起交 叠。例如平面地构造的空间光调制器通常扫描地通过光交叠。特别优选以 下实施方式：其中优选借助曝光装置的激光器产生的相干光沿着空间方向 扩展并且因此全息信息的行或者列同时个人化并且曝光到复合体的全息图 层中。

全息图层的感光区域可以然而不必须覆盖复合体的整个表面。必要的 仅仅是，保护全息图层的感光区域直至曝光免受可以用于全息图结构的曝 光的波长的光的影响。如果全息图层例如可以借助绿光和/或红光曝光，则 可以保护所述全息图层免受红色和绿色波长范围中的光的照射。这例如可 以通过用于相应波长范围的不透明的涂层实现。另一种可能在于，在曝光 之前和曝光期间在仅仅出现不能曝光全息图层的波长的窄带光的暗室或者 空间中实施复合体的制造方法和操作。适于在绿色和红色波长范围中感光 的感光材料例如是橙色的周围环境光，所述橙色的周围环境光至少在小的 光强度下不适于曝光感光材料。

在复合体的构造中可能的是，作为全息图层使用已经在集成到复合体 中之前部分曝光并且如有必要也已经部分固定的层。这意味着，在所述全 息图层集成到复合体中之前，在全息图层中尤其不变的全息图结构已经包 含在全息图层中，所述全息图结构集成到每一个安全文件中，所述每一个 安全文件应当借助复合结构制造。不变的全息图结构的所述构造可以通过 借助保护设置用于稍后曝光的区域免受曝光的掩膜的局部选择性曝光或者 通过包含不变的全息图结构的各个区域的有目的的曝光借助空间光调制器 实现。作为空间光调制器适合的是已知为数字微镜设备(DMD)或者硅上 液晶(LCoS)的设备。然而也可能的是，所述不变的全息图结构共同随着 或者在个人化的全息图结构之后事后曝光到全息图层中。

优选地，构造为薄膜的母版与弯曲的和/或不平的表面的可匹配性或者 匹配能力优于复合体的或复合体的前侧的可匹配性或者匹配能力。复合体 通常具有相对于重力作用下的弯曲的稳定性，当所述复合体借助其平行于 地面的平面延伸部保持在相对置的边缘上时。

一般而言，对象可以借助其外表面与弯曲的和/或不平的表面越好地匹 配，即可能出现的区域面越小(所述对象在对象的接触时借助弯曲的和/或 不平的表面没有借助其弯曲的和/或不平的表面的外表面贴靠所述区域面) 并且对象的外表面和所述区域面中的弯曲的和/或不平的表面之间的间距越 小，则对于对象和其外表面的可匹配性或者匹配能力越高并且越好。由不 平的表面例如可以利用以下表面：所述表面是波浪的并且表面形状的波纹 在横截面轮廓中可以通过正弦函数或者余弦函数来描述。例如，周期长度 可以为1厘米，并且最大值到最小值的振幅可以为2毫米。仅仅示例性地 所述这些值。

本发明的大的优点也在于，复合体的另外的光学的和/或电气的个性化 可以同时地或者与用于将全息图曝光到完成的复合体中的方法步骤错开地 实施。因此，个性化步骤、例如借助涂黑形式的激光刻字写入信息可以在 曝光之前、在曝光和定影之间和/或在定影之后实施。这同样适于电子个性 化，其中例如将数据写入到微芯片中或者个人化地修改电路结构。

感光衬底层集成到复合体中优选借助层压实现。这提供以下优点：层 压可以在不使用光的情况下实施并且因此可靠地防止感光衬底层的无意识 的曝光。如此选择层压参数，使得感光性在用于曝光事后要引入的全息图 结构的波长范围中不受损害。如果由聚碳酸酯构成的薄膜用作用于制造复 合体的基本材料，则在层压中使用120℃至220℃范围中的温度、优选140℃ 至200℃范围中的温度并且特别优选地160℃至180℃范围中的温度。

另一种实施方式设置，用于将感光衬底层与其余衬底层集成到复合体 中的热粘合剂的使用。替代地或附加地，也可以使用压力敏感的粘合剂。 感光衬底层和/或另一衬底层或者多个其他衬底层尤其可以构造为一个或多 个粘合薄膜。

如果感光衬底层由感光材料组成，所述感光材料在紫外波长范围中是 不敏感的，则也可以使用可紫外硬化的粘合剂，以便感光衬底层与其余衬 底层连接，由所述其余衬底层构成复合体。

完成的具有至少在一个区域中感光的全息图层的复合体优选是除个性 化以外完成构造的安全文件。除将全息图曝光到感光的全息图层中以外， 个性化也可以附加地包括其他的个性化步骤和个性化方法、例如激光个性 化(其中借助激光引起局部变色和/或去金属化(Demetallisierungen))、电 气个性化(其中将数据存储到微芯片中)、签字区域的标记等。这些不同的 个性化步骤和个性化方法可以同时地、提前地或滞后地或者不仅提前地并 且滞后地或者甚至不仅提前地、同时地并且滞后地相对于全息图的引入实 现。

附图说明

以下参照附图详细阐明本发明。附图示出：

图1：具有全息图层的感光区域的复合体的示意性剖面图；

图2：用于全息地标识复合体的设备的示意性剖面图。

具体实施方式

在图1中示意地示出复合体1，所述复合体适于事后的全息标识。复合 体由多个衬底层2至6例如以层压方法组合，其中设置有参考标记3的衬 底层是所谓的全息图层。全息图层3的特征在于，所述全息图层适于曝光 全息图结构。至少在区域7中，也在组合的复合体1中感光地构造全息图 层3，从而仍可以实现全息图的曝光。

全息图层3还包括另一区域8，在所述另一区域中已经构造完成曝光的 并且已定影的全息图9。此外，在另一区域10中曝光全息图结构11，所述 全息图结构然而还没有定影。全息图层3优选靠近复合体1的表面中的一 个布置，所述表面称作前侧12。在所示出的实施方式中，为了保护全息图 层3，设置有薄的透明的材料层2作为复合体1中的最上层。在感光区域7 上方和下方的区段13中，复合体1在前侧12和相对置的背侧14之间或者 对于以下波长透明地构造：借助所述波长能够实现全息图结构在全息图层3 的感光区域7中的曝光，或者对于在全息图层3的感光区域7中所曝光的 全息图结构的复现光的波长透明地构造。

在复合体中可以构造多个安全标识并且集成多个安全元素。示例性地 示出具有天线结构16的微芯片15作为示例性的安全元素。在各个衬底层 之间可以引入安全印刷、金属补丁等等，复合体的各个金属层2至6来源 于所述各个衬底层。

在图2中示出用于事后标识用于安全文件的复合体的设备100的示意 性截面图。设备100包括具有支承面102的保持装置101。在支承面102 中构造空隙103，在所述空隙中构造具有贴靠面105的支承板104。支承板 104相对于支承面102可移动地布置并且例如可以借助执行器106控制地定 位。由此，与支承面102平面平行地对准的贴靠面105平行于支承面102 的表面法线107地运动。

空隙103在其形状方面如此构造在支承面102中，使得所述空隙与应 当事后标识的复合体1的形状匹配。这意味着，为了在保持装置101中的 制造，用于事后标识的复合体1如此布置在空隙103中，使得复合体1的 背侧14贴靠在贴靠板104的贴靠面105上。

因此，保持装置101具有平的支承面102，所述支承面具有空隙103。 在所述空隙中布置贴靠板104，所述贴靠板具有贴靠面105。具有贴靠面105 的贴靠板104可以相对于支承面102移动并且布置在支承面102的空隙103 中。

复合体1的输送例如借助抓取机械装置110实现，所述抓取机械装置 借助抽吸器皿111使文件在运动期间通过空隙并且固定在空隙103中并且 沉积在贴靠板104上。在贴靠板104中优选构造抽吸开口121，所述抽吸开 口可以受控制地与负压容器122、例如真空泵连接。为了可以受控制地实现 以上所述，在输送管路123中例如构造阀124。如果抽吸开口121与真空容 器122连接，则抵抗贴靠板104的贴靠面105抽吸复合体1并且将其固定 在那里。

复合体通过执行器106如此定位在空隙103中，使得复合体1的前侧 12与保持装置101的支承面102平齐地封闭。随后，使构造为薄膜的母版 130与复合体1的前侧12接触。在所示出的示例中，例如构造为薄膜的母 版130由滚轮131从左向右滚动。

优选地，构造为薄膜的母版130与弯曲的和/或不平的表面的可匹配性 或者匹配能力优于复合体1的或复合体1的前侧12的可匹配性或者匹配能 力。

当所述复合体借助其前侧平行于地面地保持在相对置的边缘处时，复 合体1通常具有相对于重力作用下的弯曲的稳定性。

构造为薄膜的母版130在重力作用下的弯曲涉及以下区段：所述区段 在其延展上相应于复合体1的前侧12的延展、优选大于复合体的延展，只 要所述复合体根本示出弯曲。

构造为薄膜的母版130优选如此构造，使得其平面延展大于复合体1 的前侧12的表面，使得母版130附加地也贴靠在支承面102上。借助在施 加母版130之后同样从左向右滚动经过母版130的轧辊140确保，母版130 固定地贴靠在复合体1的前侧12上并且也贴靠在支承面102上并且尤其在 复合体1的前侧12和构造为薄膜的母版130之间不出现气泡。

为了将母版固定在支承面102上，可以在那里设置另外的抽吸孔121’， 在其他实施方式中所述另外的抽吸孔同样与真空容器122或者另一真空容 器连接。真空到抽吸孔121’处的施加可以与构造为薄膜的母版130的滚动 同步地和/或与通过轧辊140的交叠同步地实现。在此，在抽吸孔121’处产 生真空，所述抽吸孔已经通过母版130覆盖和/或交叠所述轧辊140。

贴靠板104优选全平面透明地构造，然而至少在区段151中对于如下 光波长透明地构造：所述光波长应当用于曝光复合体1的全息图层3的感 光区域7中的全息图。替代地，在区段151中，贴靠板104可以具有构造 为贯通开口()的空隙。

设备1包括曝光装置160，所述曝光装置包括产生相干光162的激光器 161或者另一光源。相干光162引导到偏转装置163上，所述偏转装置确保 相干光扫描空间光调制器164。曝光装置160优选包括光学元件，所述光学 元件沿着空间方向扩展所述光162，使得带状光束交叠空间光调制器164。 从空间光调制器输出的光162’通过贴靠板104的透明区段151并且通过复 合体1的透明区段13。在此，相干光162’也横穿感光区域7。在母版130 上，相干光162通过影响光传播的结构132、例如散光玻璃(Streuscheibe) 的体积反射全息图反射回到复合体1的全息图层3的感光区域7中并且在 那里与来自曝光装置160的相干光162’进行干涉。由此，在感光区域7中， 散光玻璃的通过空间光调制器164的空间光调制个人化的全息图曝光到复 合体1中。在曝光之后，从前侧12取下构造为薄膜的母版130，例如其方 式是，在抽吸孔121’处通过阀125的打开并且如有必要通过与过压容器126 的连接建立压力均衡或者轻微过压，并且母版130随着滚轮131从右向左 的运动卷到滚轮131上并且从复合体1的前侧12取下。随后，在通过阀124 建立抽吸孔121处的压力均衡或者过压以及输送给显影装置/定影装置之 后，借助抓取机械装置110从保持装置101移除复合体1。这可以通过紫外 光等等的热作用或者辐射实现。

与所描述的步骤中的一些步骤同时地或者时间错开地，也可以实现另 外的标识，例如将个人化数据写入到微芯片中，或者也可以实施以复合体 的其他材料层的部分碳化形式的激光个人化等等。

对于本领域内技术人员而言理解为，在此仅仅描述一种示例性的实施 方式。尤其描述体积反射全息图的接触式拷贝的制造。在此要再次注意的 是，母版130不强制地必须包含体积反射全息图，而是也可以包含其他光 反射结构。在透射全息图的曝光时实现通过复合体的前侧的曝光并且支承 面的透明不是必要的，因为为了构造全息图所述光仅仅通过前侧照射到复 合体中。因此在所述实施方式中，照明装置布置在相对置的侧上，如这在 图2中示意性示出的那样。

参考标记列表：

1          复合体

2          材料层(所述材料层与原始衬底层相关联)

3          全息图层/材料层

3-6        材料层(所述材料层与衬底层相关联)

7          感光区域

8          另一区域

9          已曝光的已定影的全息图

10         另一区域

11         全息图结构(仅仅曝光，没有定影)

12         前侧

13         区段(透明的)

14         背侧

15         微芯片

16         天线

100        用于事后全息标识复合体的设备

101        保持装置

102        支承面

103        空隙

104        贴靠板

105        贴靠面

106        执行器

107        支承面的表面法线

110        抓取机械装置

111        抽吸器皿

121、121’ 抽吸开口

122        真空容器

123        输送管路

124        阀

125        阀

126        过压容器

130        母版

131        滚轮

132        影响光传播的结构

140        轧辊

151        区段(透明的)

160        曝光装置

161        激光器

162、162’ 相干光

163        偏转装置

164        空间光调制器