一种半透半遮面板、触控面板及其制作方法以及显示装置

摘要

本发明的实施例提供一种半透半遮面板、触控面板及其制作方法以及显示装置，涉及显示技术领域，解决了白色触控面板中颜色不均的现象。该方法包括：在基板上分别涂覆负性白色光阻和正性透明光阻，形成白色光阻层和正性光阻层；对所述正性光阻层进行第一次曝光，显影后去除曝光区域的光刻胶后形成第一光阻图案，其中，所述第一光阻图案下覆盖有未曝光的白色光阻；在所述第一光阻图案和被曝光的白色光阻上涂覆黑色光阻，形成黑色光阻层；对所述黑色光阻层进行第二次曝光，显影后去除所述第一光阻图案上覆盖的黑色光阻层、所述第一光阻图案下覆盖的白色光阻层以及所述第一光阻图案，形成遮光区域。该方法可应用于触控面板的制作过程中。

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种半透半遮面板、触控面 板及其制作方法以及显示装置。

背景技术

OGS(One Glass Solution，单片玻璃式)触控面板，即在半透半 遮面板上直接形成导电膜及传感器，使半透半遮面板同时起到保护内 部结构玻璃和触控传感器的双重作用。其中，半透半遮面板板根据遮 光区域的颜色可具体分为：使用黑色色阻制作的黑色半透半遮面板， 以及使用白色色阻制作的白色半透半遮面板。

对于白色半透半遮面板，如图1所示，玻璃基板01上设置有白 色光阻02，由于白色光阻的光密度值较低，因此，为了满足遮光要 求，需要在白色光阻02的上面覆盖一层黑色光阻03，但如果白色光 阻02较薄，在其后覆盖上黑色光阻03后颜色会发青，这就要求白色 光阻02尽可能的厚。

但是，当形成的白色光阻02较厚时，经过第一次曝光显影后， 会形成的梯形的白色光阻02，这样，在梯形的白色光阻02上涂覆黑 色光阻03，经过第二次曝光显影后，由于黑色光阻03聚积在白色光 阻02的边缘，因此白色光阻02边缘处的黑色光阻03很难通过显影 洗掉，这样就造成了白色光阻02边缘处残留有黑色光阻03的问题， 进而导致半透半遮面板上颜色不均的现象。

发明内容

本发明的实施例提供一种半透半遮面板、触控面板及其制作方法 以及显示装置，解决了白色半透半遮面板上颜色不均的现象。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

本发明的实施例提供一种半透半遮面板的制作方法，包括：

在基板上分别涂覆负性白色光阻和正性透明光阻，形成白色光阻 层和正性光阻层；

对所述正性光阻层进行第一次曝光，显影后去除曝光区域的光刻 胶后形成第一光阻图案，其中，所述第一光阻图案下覆盖有未曝光的 白色光阻；

在所述第一光阻图案和被曝光的白色光阻上涂覆黑色光阻，形成 黑色光阻层；

对所述黑色光阻层进行第二次曝光，显影后去除所述第一光阻图 案上覆盖的黑色光阻层、所述第一光阻图案下覆盖的白色光阻层以及 所述第一光阻图案，形成遮光区域。

进一步地，所述黑色光阻为负性。

进一步地，对所述黑色光阻层进行第二次曝光，显影后去除所述 第一光阻图案上覆盖的黑色光阻层、所述第一光阻图案下覆盖的白色 光阻层以及所述第一光阻图案，形成遮光区域，包括：

对所述黑色光阻层进行所述第二次曝光，显影后去除所述第一光 阻图案上覆盖的黑色光阻；

通过显影工艺和剥离工艺，去除所述未曝光的白色光阻，并将所 述第一光阻图案与所述未曝光的白色光阻剥离，在所述基板形成遮光 区域。

进一步地，在基板上涂覆白色光阻之后，还包括：

对所述白色光阻层进行软烤。

进一步地，在所述第一光阻图案和被曝光的白色光阻上涂覆黑色 光阻，形成黑色光阻层之后，还包括：

对所述黑色光阻层进行软烤。

进一步地，在对所述黑色光阻层进行第二次曝光，显影后去除所 述第一光阻图案上覆盖的黑色光阻层、所述第一光阻图案下覆盖的白 色光阻层以及所述第一光阻图案，形成遮光区域之后，还包括：

在保留的黑色光阻和透光区域上形成绝缘层。

本发明的实施例还提供一种半透半遮面板，所述半透半遮面板由 上述任一项半透半遮面板的制作方法制作而成。

另外，本发明的实施例提供一种触控面板的制作方法，在形成所 述绝缘层之后，所述方法还包括：

在所述绝缘层上制作触摸驱动电极、与所述触摸驱动电极隔开以 在其间形成电容耦合节点的触摸感应电极、以及耦合至所述触摸感应 电极以测量电容耦合节点处电容变化的触控感测电路。

相应的，本发明的实施例还提供一种触控面板，所述触控面板由 上述触控面板的制作方法制作而成。

进一步地，本发明的实施例还提供一种显示装置，包括上述触控 面板。

本发明的实施例提供一种半透半遮面板、触控面板及其制作方法 以及显示装置，在基板上分别涂覆负性白色光阻和正性透明光阻，形 成白色光阻层和正性光阻层；进而，对正性光阻层进行第一次曝光， 由于正性光阻层中光阻为正性，而白色光阻为负性，因此，曝光区域 的光刻胶经过显影后被去除，未曝光的光刻胶固化后形成第一光阻图 案，此时，在第一光阻图案下覆盖有未曝光的白色光阻，而第一光阻 图案未覆盖的区域内的白色光阻被曝光；这样，在第一光阻图案和被 曝光的白色光阻上涂覆黑色光阻，形成黑色光阻层；并对黑色光阻层 进行第二次曝光，显影后去除第一光阻图案上覆盖的黑色光阻层，此 时，由于第一光阻图案下覆盖的白色光阻未曝光，且白色光阻为负性， 因此，显影后未曝光的白色光阻也被去除，随之第一光阻图案与白色 光阻剥离去除，最终在基板上形成由曝光后的白色光阻和覆盖于白色 光阻上的黑色光阻组成的遮光区域，可以看出，在去除第一光阻图案 上覆盖的黑色光阻层时，由于第一光阻图案的厚度较小，不会出现第 一光阻图案上覆盖的黑色光阻层难以显影去除的问题，更不会在白色 光阻的边缘处残留未洗掉的黑色光阻，进而在不增加曝光次数的同 时，解决了白色半透半遮面板中颜色不均的现象。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面 将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而 易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域 普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些 附图获得其他的附图。

图1为现有技术中半透半遮面板的结构示意图；

图2为本发明的实施例提供的一种半透半遮面板的制作方法的 流程示意图；

图3为本发明实施例提供的一种半透半遮面板的结构示意图一；

图4为本发明实施例提供的一种半透半遮面板的结构示意图二；

图5为本发明实施例提供的一种半透半遮面板的结构示意图三；

图6为本发明实施例提供的一种掩膜版的结构示意图一；

图7为本发明实施例提供的一种掩膜版的结构示意图二；

图8为本发明实施例提供的一种半透半遮面板的结构示意图四；

图9为本发明实施例提供的一种半透半遮面板的结构示意图五；

图10为本发明实施例提供的一种半透半遮面板的结构示意图 六；

图11为本发明实施例提供的一种掩膜版的结构示意图三。

具体实施方式

以下描述中，为了说明而不是为了限定，提出了诸如特定系统结 构、接口、技术之类的具体细节，以便透彻理解本发明。然而，本领 域的技术人员应当清楚，在没有这些具体细节的其它实施例中也可以 实现本发明。在其它情况中，省略对众所周知的装置、电路以及方法 的详细说明，以免不必要的细节妨碍本发明的描述。

另外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为 指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由 此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个 或者更多个该特征。在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的 含义是两个或两个以上。

本发明的实施例提供一种半透半遮面板的制作方法，如图2所 示，包括：

101、在基板上分别涂覆负性白色光阻和正性透明光阻，形成白 色光阻层和正性光阻层。

具体的，如图3所示，在基板01上分别涂覆负性的白色光阻和 正性的透明光阻，形成白色光阻层11和位于该白色光阻层11之上的 正性光阻层12。

其中，光阻可以分为正性光阻和负性光阻，正性光阻中照到光的 部分会溶于光阻显影液，而没有照到光的部分不会溶于光阻显影液； 相应的，负性光阻中照到光的部分不会溶于光阻显影液，而没有照到 光的部分会溶于光阻显影液。

另外，在基板01上涂覆负性白色光阻，形成白色光阻层11之后， 还可以对白色光阻层11进行软烤(Soft bake)，以使得白色光阻层 11中的溶剂蒸发去除，进而在白色光阻层11上涂覆正性光刻胶，形 成正性光阻层12，增加白色光阻层11与正性光阻层12之间的附着 力。

需要说明的是，基板01可以具体为玻璃基板，或者是贴覆在玻 璃基板上的柔性透明基板。而且，应当明确的是，本发明实施例中涉 及到的半透半遮面板，是指由一定面积的遮光区域和一定面积的透光 区域组成的面板，并且，本发明对遮光区域和透光区域的面积大小不 作任何限制。

102、对正性光阻层进行第一次曝光，显影后去除曝光区域的光 刻胶后形成第一光阻图案，其中，第一光阻图案下覆盖有未曝光的白 色光阻。

如图4所示，在步骤102中，使用掩膜版31对步骤101中形成 的正性光阻层12进行第一次曝光，由于正性光阻层12中的光刻胶为 正性，因此，曝光区域的光刻胶经光照后变成可溶物质，经过显影后 去除曝光区域的光刻胶后，形成第一光阻图案13。

此时，如图5所示，由于白色光阻层11中的白色光阻为负性， 因此，白色光阻层11中没有被曝光的区域21被第一光阻图案13覆 盖，该区域中的白色光阻可溶于光阻显影液，而白色光阻层11中被 曝光的区域22没有被覆盖。

可选的，在制作触控面板中的半透半遮面板时，由于遮光区域通 常设置在半透半遮面板的四周或者两端，因此，可以选择如图6中所 示的掩膜版31，其中，黑色为不透光区域，白色为透光区域，这样， 将透光区域设置在掩膜版311的四周，使基板01上与透光区域对应 的白色光阻被曝光。又或者，选择如图7中所示的掩膜版31，将透 光区域设置在掩膜版31的两端，同样使基板01上与透光区域对应的 白色光阻被曝光。

当然，半透半遮面板中遮光区域的设置方式并不局限于此，例如： 可以只将基板01的某个边缘设置为遮光区域，其他区域均为透光区 域，本发明对此不作任何限定。

103、在第一光阻图案和被曝光的白色光阻上涂覆黑色光阻，形 成黑色光阻层。

如图8所示，经过步骤103，在第一光阻图案13和白色光阻层 11中被曝光的白色光阻上涂覆黑色光阻，形成黑色光阻层14。此时， 涂覆的黑色光阻可以是正性黑色光阻，也可以是负性黑色光阻，本发 明实施例对此不作任何限制。

另外，在基板01上涂覆黑色光阻，形成黑色光阻层14之后，还 可以对黑色光阻层14进行软烤(Soft bake)，以使得黑色光阻层14 中的溶剂蒸发去除，进而增加黑色光阻层14与第一光阻图案13之间 的附着力。

104、对黑色光阻层进行第二次曝光，显影后去除第一光阻图案 上覆盖的黑色光阻层、第一光阻图案下覆盖的白色光阻层以及第一光 阻图案，形成遮光区域。

如图9所示，在步骤104中，对步骤103中形成的黑色光阻层 14进行第二次曝光，此时，当黑色光阻层14中为负性黑色光阻时， 可以直接使用步骤102中的掩膜版31，在相同位置对黑色光阻层14 进行第二次曝光，此时，被曝光的黑色光阻覆盖在被曝光的白色光阻 上，而未曝光的黑色光阻覆盖在第一光阻图案13上。

此时，由于负性光阻中照到光的部分不会溶于光阻显影液，而没 有照到光的部分会溶于光阻显影液，而分别覆盖在第一光阻图案13 上下的黑色光阻和白色光阻均未曝光，因此，经过光阻显影液的显影 后，可以去除第一光阻图案13上覆盖的黑色光阻，同时，可以去除 第一光阻图案13下覆盖的白色光阻，进而使第一光阻图案13分别与 白色光阻层11和黑色光阻层14剥离，最终，形成如图10所示的半 透半遮面板，其中，该半透半遮面板包括由保留的白色光阻层11和 黑色光阻层14组成的遮光区域。

又或者，当黑色光阻层14中为正性黑色光阻时，可以使用与掩 膜版31中透光区域和不透光区域相反设置的掩膜版32(如图11所 示)，使得未曝光的黑色光阻覆盖在被曝光的白色光阻上，而被曝光 的黑色光阻覆盖在第一光阻图案13上。

此时，由于负性光阻中没有照到光的部分会溶于光阻显影液，而 正性光阻中照到光的部分会溶于光阻显影液，并且正性黑色光阻会吸 收曝光的光线，因此，通过控制曝光程度，覆盖在第一光阻图案13 上的黑色光阻被曝光，可溶于光阻显影液，而覆盖在第一光阻图案 13下的白色光阻未曝光，也可溶于光阻显影液，因此，仍然可以经 过上述显影工艺和剥离工艺，形成如图10所示的半透半遮面板。

可以看出，经过上述步骤101-104，由于将黑色光阻层涂覆在第 一光阻图案13上，而且第一光阻图案13的厚度较小，因此，第一光 阻图案13上覆盖的黑色光阻可以全部通过显影工艺被洗掉，不存在 由于黑色光阻聚积在白色光阻的边缘，进而难以洗掉白色光阻边缘处 的黑色光阻的问题，相应的，本发明实施例提供的半透半遮面板的制 作方法，可以在不增加曝光次数的同时，一次性去除覆盖在第一光阻 图案13上下的黑色光阻和白色光阻，不会在保留的白色光阻的边缘 处残留黑色光阻，进而提高了白色触控面板的颜色均匀性。

相应的，基于上述半透半遮面板的制作方法，本发明的实施例还 提供一种如图10所示的半透半遮面板，该半透半遮面板是由上述步 骤101-104制作而成的。

进一步地，本发明的实施例还提供一种触控面板的制作方法，在 上述步骤104之后，还包括：

105、在保留的黑色光阻和透光区域上形成绝缘层。

具体的，可以在如图10所示基板上的透光区域和保留有黑色光 阻的区域上形成绝缘层。

106、在所述绝缘层上制作触摸驱动电极、与所述触摸驱动电极 隔开以在其间形成电容耦合节点的触摸感应电极、以及耦合至所述触 摸感应电极以测量电容耦合节点处电容变化的触控感测电路。

其中，该触摸驱动电极和触摸感应电极与半透半遮面板上的透光 区域相对应，该触控感测电路与半透半遮面板上的遮光区域相对应， 最终形成白色OGS触控面板。

相应的，基于上述触控面板的制作方法，本发明的实施例还提供 一种触控面板，该触控面板是由上述步骤101-106制作而成的。

进一步地，本发明实施例还提供了一种显示装置，其包括上述触 控面板。其中，所述显示装置可以为：液晶面板、电子纸、OLED面 板、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导 航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

本发明的实施例提供一种半透半遮面板、触控面板及其制作方法 以及显示装置，在基板上分别涂覆负性白色光阻和正性透明光阻，形 成白色光阻层和正性光阻层；进而，对正性光阻层进行第一次曝光， 由于正性光阻层中光阻为正性，而白色光阻为负性，因此，曝光区域 的光刻胶经过显影后被去除，未曝光的光刻胶固化后形成第一光阻图 案，此时，在第一光阻图案下覆盖有未曝光的白色光阻，而第一光阻 图案未覆盖的区域内的白色光阻被曝光；这样，在第一光阻图案和被 曝光的白色光阻上涂覆黑色光阻，形成黑色光阻层；并对黑色光阻层 进行第二次曝光，显影后去除第一光阻图案上覆盖的黑色光阻层，此 时，由于第一光阻图案下覆盖的白色光阻未曝光，且白色光阻为负性， 因此，显影后未曝光的白色光阻也被去除，随之第一光阻图案与白色 光阻剥离去除，最终在基板上形成由曝光后的白色光阻和覆盖于白色 光阻上的黑色光阻组成的遮光区域，可以看出，在去除第一光阻图案 上覆盖的黑色光阻层时，由于第一光阻图案的厚度较小，不会出现第 一光阻图案上覆盖的黑色光阻层难以显影去除的问题，更不会在白色 光阻的边缘处残留为洗掉的黑色光阻，进而在不增加曝光次数的同 时，解决了白色半透半遮面板中颜色不均的现象。

在本说明书的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任 何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并 不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范 围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。 因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。