公开/公告号CN104823276A
专利类型发明专利
公开/公告日2015-08-05
原文格式PDF
申请/专利权人 东部HITEK株式会社;金成振;
申请/专利号CN201480002926.2
申请日2014-02-14
分类号H01L23/34(20060101);
代理机构上海和跃知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人胡艳
地址 韩国首尔江南区德黑兰432
入库时间 2023-12-18 10:02:35
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-03-02
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L23/34 申请公布日:20150805 申请日:20140214
发明专利申请公布后的视为撤回
2015-09-02
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L23/34 申请日:20140214
实质审查的生效
2015-08-05
公开
公开
机译: 用于制造晶圆级包装的覆晶晶圆的光电掩模以及使用该晶圆制造晶圆级封装的覆晶晶圆的方法
机译: 处理后的铜箔,覆铜层压板,印刷线路板,电子设备,半导体封装的制造方法,印刷线路板,电子器件的制造方法,半导体封装的制造方法,树脂的制造方法基板,在树脂基材上转印表面轮廓的铜箔方法
机译: 薄膜型半导体密封件,使用相同制造的半导体封装及其制造方法