法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-08-04
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L29/78 申请公布日:20150617 申请日:20131217
发明专利申请公布后的视为撤回
2015-06-17
公开
公开
机译: 包括埋入式栅极图案的场效应晶体管结构以及制造包括场效应晶体管结构的半导体器件的方法
机译: 具有氧扩散阻挡层的MOS晶体管的制造方法及其制造的MOS晶体管
机译: 侧向晶体管,集成式半成品晶体管以及用于制造集成式半成品的方法