一种平面光波导分路器波导分叉的填充方法

摘要

本发明公开了一种平面光波导分路器波导分叉的填充方法，其特征在于包括以下步骤：101、将表面进行等离子体物理刻蚀后的晶圆放入上包层生长设备中进行上包层薄膜沉积；102、在晶圆表面生长一薄层高掺杂硼磷的二氧化硅薄膜；103、将生长完二氧化硅薄膜的晶圆放入1000-1500度高温炉中退火1-5小时；104、在晶圆表面上生长6-8微米低掺杂硼磷的二氧化硅薄膜；105、重复步骤104两次，即再生长12-16微米低掺杂硼磷的二氧硅薄膜；106、将生长完二氧化硅薄膜的晶圆放入1000-1500度高温炉中退火10-20小时后取出。本发明对平面光波导分路器的波导分叉进行有效填充，从而提高工艺稳定性和产品的合格率。