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基于单粒子效应的仿真方法和仿真装置

摘要

本发明适用于半导体器件领域,提供了一种基于单粒子效应的验证方法和仿真装置;所述基于单粒子效应的仿真方法包括:向半导体器件发射粒子,并确定所述粒子在所述半导体器件的入射角度;所述粒子入射所述半导体器件之后,采集与所述粒子在所述半导体器件中能量沉积相关的能量沉积数据;基于所述能量沉积数据和所述入射角度,建立入射角度-能量沉积的关系曲线,基于所述入射角度-能量沉积的关系曲线分析单粒子效应。通过该所述入射角度-能量沉积的关系曲线分析单粒子效应。

著录项

  • 公开/公告号CN104573187A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-04-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 深圳市国微电子有限公司;

    申请/专利号CN201410764328.0

  • 申请日2014-12-11

  • 分类号G06F17/50(20060101);

  • 代理机构44237 深圳中一专利商标事务所;

  • 代理人张全文

  • 地址 518000 广东省深圳市南山区高新南一道015号国微研发大厦六层A

  • 入库时间 2023-12-18 08:25:28

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-22

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G06F17/50 申请公布日:20150429 申请日:20141211

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2015-05-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06F17/50 申请日:20141211

    实质审查的生效

  • 2015-04-29

    公开

    公开

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