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一种用于X射线光栅相位衬度成像的背景扣除方法

摘要

本发明公开了一种用于X射线光栅相位衬度成像的背景扣除方法,成像系统包括X光机(1)、源光栅(2)、分束光栅(3)、样品室(4)、分析光栅(5)和X射线探测器(6)。本发明利用相位步进法采集到的图像,通过循环移动样品图像和背景图像的顺序,而使各像素的初始相位远离相位跳变区,从而可以使样品产生的相位没有跨过跳变区,进而可以避免相位纠缠现象的发生。同时基于本发明专利的背景扣除方法可以灵活调节相位测量的范围,如调节为(-π+3,π+3],而传统方法的相位测量范围是固定在(-π,π]区间内的,本发明专利因此可以在某些应用情况下获得优势。

著录项

  • 公开/公告号CN104535595A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-04-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学技术大学;

    申请/专利号CN201510012249.9

  • 申请日2015-01-09

  • 分类号G01N23/04(20060101);G06F19/00(20110101);G06T7/00(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人宋焰琴

  • 地址 230026 安徽省合肥市包河区金寨路96号

  • 入库时间 2023-12-18 08:15:34

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-05-31

    授权

    授权

  • 2015-05-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N23/04 申请日:20150109

    实质审查的生效

  • 2015-04-22

    公开

    公开

说明书

技术领域

本发明涉及X射线相位衬度成像技术领域,具体涉及一种用于X射 线光栅相位衬度成像的背景扣除方法。

背景技术

对于那些由轻元素组成的物质,硬X射线相位衬度成像技术能够提供 比传统吸收成像高达上千倍的图像衬度和测量灵敏度,该技术因而在生物 软组织成像方面有巨大的应用前景(参考文件[1,2])。在目前众多的X射 线相位衬度成像技术中,基于三块光栅的X射线相位衬度成像技术是最有 可能获得推广和实际运用的(参考文件[3-5]),这是因为该方法可以利用 普通的X光机进行X射线相位衬度成像,从而使X射线相位衬度成像技 术摆脱了同步辐射光源和微焦点光源的约束。

在基于光栅干涉仪的X射线相位衬度成像技术中,为了得到纯样品的 折射信息,背景扣除是一个必不可少的步骤(参考文件[6,7])。在实际试 验中,往往是首先把样品移入成像视场,利用相位步进方法采集一套图像, 然后把样品移出成像视场,采集另一套数据,最后利用这两套数据进行背 景扣除运算。目前普遍采用的背景扣除方法主要有两种,第一种方法称为 Arg(S)-Arg(B),该方法的相位测量范围是(-2π,2π],缺点是在样品产生的 相位没有超出(-π,π]范围的时候,也很有可能会产生相位纠缠现象(参考 文件[6,7]);第二种方法称为Arg(S/B)法(参考文件[8]),该方法的相位测 量范围是固定在区间(-π,π]内的,缺点是在样品产生的相位超出(-π,π] 范围的时候,该方法会产生相位缠绕现象(参考文件[7]),而解除相位缠 绕现象需要非常复杂的算法(参考文件[9,10])。

参考文献:

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[8]S.Wang,R.Hu,Z.Wang,K.Gao,K.Zhang,A.Momose,et al., ″Experimental research on the feature of Talbot-Lau interferometer vs.tube  accelerating voltage,″arXiv preprint arXiv:1410.7655,2014.

[9]T.R.Judge and P.Bryanston-Cross,″A review of phase  unwrapping techniques in fringe analysis,″Optics and Lasers in Engineering, vol.21,pp.199-239,1994.

[10]K.Itoh,″Analysis of the phase unwrapping algorithm,″Applied  Optics,vol.21,pp.2470-2470,1982.

发明内容

(一)要解决的技术问题

本发明指在提出一种新的背景扣除方法,用于X射线光栅相位衬度成 像中,一方面消除样品引起相位没有超出(-π,π]时候产生的相位纠缠现象; 另一方面调节测量相位的范围,如调节测量范围到(-π+3,π+3],从而可以 适应于不同的应用环境。

(二)技术方案

本发明提出一种用于X射线光栅相位衬度成像的背景扣除方法,应用 于X射线相位衬度成像系统,该系统包括X光机(1)、源光栅(2)、分 束光栅(3)、样品室(4)、分析光栅(5)和X射线探测器(6)。

所述方法包括如下步骤:

S1、在垂直于光路的横向平面上,沿垂直于分析光栅栅条的方向上使 分析光栅在一个光栅周期内逐步移动,在原始位置和每步移动后的位置均 分别采集样品图像和背景图像,得到的样品图像记为Sj,得到的背景图像 记为Bj,j表示图像序号并有j=0,1,……,M-1;

S2、利用如下公式计算所述样品图像和背景图像的折射角矩阵Φ:

其中(x,y)是所述样品图像或背景图像的像素坐标,是折射角矩 阵Φ的元素,表示像素坐标(x,y)处的折射角,zT是样品和分析光栅之间的 距离,k是整数,Ik(x,y)代表所述像素坐标(x,y)处图像的灰度值,简写为 Ik,arg[]表示对[]中的复数求复角运算,其中:

当I0,I1,…,IM-1分别为样品图像S0,S1,…,SM-1的像素的灰度值时,得到样 品图像的折射角矩阵其内部元素为当I0,I1,…,IM-1分别为背 景图像B0,B1,…,BM-1的像素的灰度值时,得到背景图像的折射角矩阵其内部元素为

当I0,I1,…,IM-1分别为样品图像SM-1,S0,S1,…,SM-2的像素的灰度值时,得 到样品图像的折射角矩阵其内部元素为当I0,I1,…,IM-1分别 为背景图像BM-1,B0,B1,…,BM-2的像素的灰度值时,得到背景图像的折射角 矩阵其内部元素为

……;

当I0,I1,…,IM-1分别为样品图像S1,S2,…,SM-1,S0的像素的灰度值时,得到 样品图像的折射角矩阵其内部元素为当I0,I1,…,IM-1分别为 背景图像B1,B2,…,BM-1,B0的像素的灰度值时,得到背景图像的折射角矩阵 其内部元素为

S3、对于背影图像的折射角矩阵中像素坐标(1,1)的各元 素比较其绝对值的大小,取其中绝对值最小的 元素的从而确定其对应的样品图像的折射角矩阵中的元素i为自然数且不大于M,通过公式计算得到扣除背景后的 样品图像的像素坐标(1,1)处的折射角

S4、对背景图像和样品图像中的每一个像素(x,y),重复步骤S3,从 而得到样品的折射角矩阵Φi的每一个元素

根据本发明的优选实施方式,所述步骤S1中,每次移动分析光栅的 距离均为d/M,d是所述分析光栅的周期,M是上述过程中总共采集图像 的数量

根据本发明的优选实施方式,M大于或等于3。

(三)有益效果

(1)本发明通过循环移位原始图像的顺序而使各像素的初始相位远 离相位跳变区,从而可以使样品产生的相位没有跨过跳变区,进而可以避 免在样品产生的相位没有超出(-π,π]范围的时候产生的相位纠缠现象。

(2)本发明可以在一定程度上调节测量相位的区间,(传统Arg(S/B) 方法测量的相位区间是(-π,π],是固定不变的)。假设样品的折射引起的相 位是π+0.1,那么根据Arg(S/B)方法计算得到的值是-π+0.1,此时就会引起 计算错误,而利用本发明提出的方法,通过合理移位,即可保证测量的相 位区间是(-π+2,π+2],从而可以准确地测量出样品的相位π+0.1。

附图说明

图1是X射线光栅相位衬度成像系统光学结构图;

图2是本发明的背景扣除新方法的原理示意图,其中(a)图是位移 曲线示意图,(b)图是测量得到的相位的示意图;

图3是本发明的一个实施例的X射线光栅相位衬度成像系统的结构图;

图4是本发明的一个实施例的原始图像示意图,s①,s②,s③,s④ 和s⑤是五张样品图像,b①,b②,b③,b④和b⑤是五张背景图像;

图5是本发明的一个实施例的三种背景扣除方法得到的折射图像的示 意图,其中(a)图是利用传统Arg(S)-Arg(B)方法计算的结果,(b)图是 利用传统Arg(S/B)方法计算得到的结果,(c)是利用本发明计算得到的结 果;

图6是利用传统Arg(S/B)方法以及本发明提出的方法得到的实验结果 的定量比较图。

具体实施方式

本发明的总体构思是:充分利用相位步进法采集到的图像的特点,通 过循环移位原始样品图像和背景图像的顺序,而使各像素的初始相位远离 相位跳变区,从而可以使样品产生的相位没有跨过跳变区,进而可以避免 相位纠缠现象的发生。

具体来说,本发明的用于X射线光栅相位衬度成像的背景扣除方法应 用于X射线相位衬度成像系统,X射线相位衬度成像系统至少包括有X 光机、源光栅、分束光栅、样品室、分析光栅和X射线探测器。本发明的 方法包括如下步骤:

S1、在垂直于光路的横向平面上,沿垂直于分析光栅栅条的方向上使 分析光栅在一个光栅周期内逐步移动,在原始位置和每步移动后的位置均 分别采集样品图像和背景图像,得到的样品图像记为Sj,得到的背景图像 记为Bj,j表示图像序号并有j=0,1,……,M-1。一般,每次移动分析光栅的 距离均为d/M,d是所述分析光栅的周期,M是上述过程中总共采集图像 的数量。M通常大于或等于3。

S2、利用如下公式计算所述样品图像和背景图像的折射角矩阵Φ:

其中(x,y)是所述样品图像或背景图像的像素坐标,是折射角矩 阵Φ的元素,表示像素坐标(x,y)处的折射角,zT是样品和分析光栅之间的 距离,k是整数,Ik(x,y)代表所述像素坐标(x,y)处图像的灰度值,简写为 Ik,arg[]表示对[]中的复数求复角运算,其中:

当I0,I1,…,IM-1分别为样品图像S0,S1,…,SM-1的像素的灰度值时,得到样 品图像的折射角矩阵其内部元素为当I0,I1,…,IM-1分别为背 景图像B0,B1,…,BM-1的像素的灰度值时,得到背景图像的折射角矩阵其内部元素为

当I0,I1,…,IM-1分别为样品图像SM-1,S0,S1,…,SM-2的像素的灰度值时,得 到样品图像的折射角矩阵其内部元素为当I0,I1,…,IM-1分别 为背景图像BM-1,B0,B1,…,BM-2的像素的灰度值时,得到背景图像的折射角 矩阵其内部元素为

……;

当I0,I1,…,IM-1分别为样品图像S1,S2,…,SM-1,S0的像素的灰度值时,得到 样品图像的折射角矩阵其内部元素为当I0,I1,…,IM-1分别为 背景图像B1,B2,…,BM-1,B0的像素的灰度值时,得到背景图像的折射角矩阵 其内部元素为

S3、对于背影图像的折射角矩阵中像素坐标(1,1)的各元 素比较其绝对值的大小,取其中绝对值最小的 元素的从而确定其对应的样品图像的折射角矩阵中的元素i为自然数且不大于M,通过公式计算得到扣除背景后的 样品图像的像素坐标(1,1)处的折射角

S4、对图像中的每一个像素(x,y),重复步骤S3,重复步骤S3,从而 得到样品的折射角矩阵Φi的每一个元素

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白,以下结合具体五 次图像取样的实施例,对本发明作进一步的详细说明。也就是说,在该实 施例中,M=5。

步骤S1、图像采集过程。图1是该实施例的X射线光栅相位衬度成 像系统的光学结构图。如图1所示,主要包括X光机1,源光栅2,分束 光栅3,样品室4,分析光栅5和X射线探测器6。在图像采样时,首先 对X射线探测器进行暗场和明场校正,然后以莫尔条纹为参考对象,尽量 对准三块光栅,使视场中莫尔条纹的周期尽量无穷大。然后,采集第一张 图像;接着在垂直于光栅栅条方向移动分析光栅1μm,光栅运动完成后, 采集第二张图像;继续移动分析光栅1μm,光栅运动完成后,采集第三张 图像;然后继续移动分析光栅1μm,光栅运动完成后,采集第四张图像; 最后移动分析光栅1μm,光栅运动完成后,采集第五张图像。然后把样品 移入视场,把分析光栅回归原始位置,按照上述同样的步骤,采集五张样 品图像。

步骤S2、具体计算过程。把5张背景图像依次编号为①、②、③、④、 ⑤,5张样品图像也编号为①、②、③、④和⑤,背景图像和样品图像均 排成序列①②③④⑤,利用如下公式分别计算背景图像和样品图像的折射 角矩阵Φ:

公式中的参数含义与前相同,且M=5,d=5μm。

该排列序号下得到的样品图像的折射角矩阵背景图像的折射角 矩阵

接着,将背景图像和样品图像改变排列序列分别为⑤①②③④、 ④⑤①②③、③④⑤①②、②③④⑤①,再次依上述公式进行计算,得到 样品图像的折射角矩阵背景图像的折射角矩阵Φ3B,Φ4B,Φ5B

步骤S3、对对于背影图像的折射角矩阵的第一个元素,即x=1、y=1, 根据计算得到的5个背景图像在x=1,y=1像素处的5个折射角,即和寻找这五个折射角中绝对值最小的 那个数所处的位置序号,记为i,然后在对应的5个样品图像的折射角 [和]中寻找第i个数,利用 计算出第一个像素处的折射角

S4、对背景图像和样品图像中的每一个像素(x,y),重复步骤S3,从 而得到样品的折射角矩阵Φi的每一个元素

上述计算方法的原理如图2所示。图2的(a)图中的黑色曲线是某 一个像素的光强随分析光栅横向运动而变化的位移曲线,一般来说,该曲 线是一个标准的余弦曲线。图像中的①、②、③、④和⑤代表相位步进方 法采集的五张图像的位置,这五个位置均匀的把位移曲线的一个周期分成 5等份。图2的(b)图中的黑色曲线代表提取出来的相位,该曲线与(a) 图中的曲线的一一对应,对应关系描述如下,假设相位步进采集的5张图 像是①、②、③、④和⑤,那么提取出来的相位就是位置①垂直投影在图 2(b)中曲线的点的纵坐标的值。在样品引起相位没有超出(-π,π]时候, Arg(S)-Arg(B)背景扣除方法会产生相位纠缠现象的原因是:没有样品的时 候对应的位置在图2的(b)图曲线的跳变区附近,加上样品以后, 位移曲线产生移动,因此计算出来的相位可能会越过图2的(b) 图曲线的跳变区,此时在利用公式进行背景扣除的时候, 就会产生一个2π或者-2π的增量,这就是错误产生的原因。本发明的核心 思想就是使每一个像素的初始相位都尽可能的远离跳变区,远离的办法是 通过循环移位原始相位步进图像来实现的,如把①②③④⑤移位成 ⑤①②③④,那么根据余弦曲线的性质,我们知道其等效于⑤1①②③④, 如图2的(a)图所示,这里认为点⑤1,④1,③1,②1在位移曲线中的相 位和点⑤,④,③,②在位移曲线中的相位相同。那么根据序列⑤1①②③④ 计算得到的相位就是如图2的(b)图中的⑤①②③④所示。同样的办法, ④11①②③等效于④11①②③;③111①②等效于③111①②; ②1111①等效于②1111①,我们可以分别求出序列④⑤①②③、 ③④⑤①②、②③④⑤①的相位。计算发现,这五种图像序列计算得到的 相位均匀地分布在图2中曲线的一个周期上。在这5个相位中,找到最远 离跳变区,也就是绝对值最小的那个值。那么在加上样品的时候,由于样 品折射引起的相位变化就有最大的可能不会跨过跳变区,因此也不会引起 计算错误。

以下公式证明了样品图像和背景图像经过同样的循环移位后,纯样品 的折射信息固定不变,从而证实了本发明提出的背景扣除方法的可行性。

需要指出的是在上述公式中,sample表示样品图像,background表示 背景图像,我们假定背景的初始相位稍微偏离跳变边界,同时样品引起的 相位移动非常小,不会跨过跳变区。

需要指出的是,在上述本发明的方法介绍中,我们均以5步作为实例 说明其操作过程,在实际应用中,任何一个大于或等于3的整数都是可以 的。另需要说明的是,本发明提出的背景扣除方法,同样可以运用在基于 两块光栅的相位衬度成像技术和基于晶体干涉仪的X射线相位衬度成像 技术中。

图3是该发明的具体实施方式的成像系统的结构图,X光机603、源 光栅604、分束光栅612、样品室613和分析光栅618均通过光学精密位 移台602固定在光学平台601上,在分析光栅618横向运动方向,配置有 超精密的压电陶瓷电机617,用于高精密的相位步进扫描,X射线探测器 619通过机械部件固定。X光机603的焦点大小为1mm,工作管电压为40 KV,管电流为45mA。源光栅604周期为22.7μm,金厚度为70μm,占空 比为1∶1,面积为2×2cm2。分束光栅612周期为4.36μm,金厚度为2.43μm, 占空比为1∶1,面积为5×5cm2。分析光栅618周期为5.4μm,金厚度为65μm, 占空比为1∶1,面积为5×5cm2。X射线探测器的像素尺寸为18×18μm2,探 测器619的活动区域面积为6.84×6.84cm2。源光栅604距离X光机603出 光点的距离为8cm,源光栅604和分束光栅612的距离为106.9cm,样品 室613位于分束光栅612后面,分析光栅618和分束光栅612的距离为 25.6cm,X射线探测器619紧贴着分析光栅618放置。

三块光栅经过精确对准后,固定好样品,该实施例中样品是一根直径 为10mm的PMMA玻璃棒、一根直径为5mm的POM玻璃棒、一根直径 为5mm的PMMA玻璃棒和一根直径为10mm的POM玻璃棒。首先采集 第一张样品图像①;然后在垂直于光栅栅条方向移动分析光栅1μm,光栅 运动完成后,采集第二张样品图像②;接着移动分析光栅1μm,光栅运动 完成后,采集第三张样品图像③;然后继续移动分析光栅1μm,光栅运动 完成后,采集第四张样品图像④;最后移动分析光栅1μm,光栅运动完成 后,采集第五张样品图像⑤。然后把样品移出视场,按照同样的步骤,采 集背景图像①、②、③、④和⑤。采集的5张样品图像额5张背景图像分 别如图4所示。

图5是基于上述五张背景图像(b①,b②,b③,b④和b⑤)和五张 样品图像(s①,s②,s③,s④和s⑤),分别采用2种传统背景扣除方法 以及本发明提出的背景扣除方法计算得到的样品的折射图像。(a)图是利 用传统Arg(S)-Arg(B)方法计算得到的结果,(b)图是利用传统Arg(S/B) 方法计算得到的结果,(c)图是利用本发明计算得到的结果。可以看出利 用传统Arg(S)-Arg(B)方法计算得到的实验结果中存在明显的坏点(相位缠 绕现象),而利用传统Arg(S/B)方法以及本发明提出的方法则完全消除了 相位缠绕现象。

图6是利用传统Arg(S/B)方法以及本发明提出的方法得到的实验结果 的定量比较图。(a)图是利用本发明计算得到的折射图像,(b)图是利用 传统Arg(S/B)方法计算得到的样品的折射图像,(c)图是两种方法得到的 实验结果的断面图,(c)图中的黑色实线是本发明的断面图,断面选取如 (a)中的黑色横线所示,(c)图中的虚线是传统Arg(S/B)方法的断面图, 断面选取如图(b)图中的白色横线所示。从图中可以看出,两条曲线完 全重合,本发明的方法可以得到与传统Arg(S/B)方法一模一样的数值。

但是传统Arg(S/B)方法测量的相位区间是(-π,π],是固定不变的。假 设样品的折射引起的相位是π+0.1,那么根据传统Arg(S/B)方法计算得到 的相位值是-π+0.1,此时就会引起错误。而利用本发明提出的新方法,通 过合理移位,即可保证测量的相位区间是(-π+2,π+2],从而可以准确测量 相位π+0.1。需要指出的是基于本发明的这个优势在这个实施例上没有得 到体现,但本领域的技术人员可以理解。

以上所述的具体实施例,对本发明的目的、技术方案和有益效果进行 了进一步详细说明,应理解的是,以上所述仅为本发明的具体实施例而已, 并不用于限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所做的任何修改、 等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

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