公开/公告号CN102764106A
专利类型发明专利
公开/公告日2012-11-07
原文格式PDF
申请/专利权人 上海美沃精密仪器有限公司;
申请/专利号CN201110112068.5
申请日2011-05-03
分类号A61B3/032(20060101);
代理机构
代理人
地址 200233 上海市徐汇区桂平路680号创业中心大厦33栋817室
入库时间 2023-12-18 07:11:56
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-11-25
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):A61B3/032 申请公布日:20121107 申请日:20110503
发明专利申请公布后的视为撤回
2013-04-10
著录事项变更 IPC(主分类):A61B3/032 变更前: 变更后: 申请日:20110503
著录事项变更
2012-12-26
实质审查的生效 IPC(主分类):A61B3/032 申请日:20110503
实质审查的生效
2012-11-07
公开
公开
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机译: 用于将检查系统的一种或多种光学模式识别为候选晶圆层的检查方法的计算机实现的方法,计算机可读介质和系统