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多组分显色阴离子共插层超分子结构颜料及其制备方法

摘要

本发明提供了一种多组分显色阴离子共插层的超分子结构颜料及其制备方法。该超分子插层结构颜料的化学组成通式为:M2+1-xM3+x(OH)2(An-)x/n·mH2O。该颜料的制备方法是将混合盐溶液、两种或两种以上显色阴离子化合物的混合溶液和碱溶液混合,将显色阴离子同时插入到水滑石层间,从而制备出一系列多组分显色阴离子共插层的超分子结构颜料。该颜料颜色不同于单一显色阴离子插层的超分子结构颜料,其颜色可以通过调变插入水滑石层间的不同显色阴离子的摩尔比进行调控。该颜料的制备方法简单,便于大规模生产。

著录项

  • 公开/公告号CN102732055A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-10-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京化工大学;

    申请/专利号CN201110085768.X

  • 发明设计人 李殿卿;唐平贵;冯拥军;冯俊婷;

    申请日2011-04-07

  • 分类号C09B67/22(20060101);C09B67/02(20060101);

  • 代理机构11014 北京金富邦专利事务所有限责任公司;

  • 代理人揭玉斌

  • 地址 100029 北京市朝阳区北三环东路15号

  • 入库时间 2023-12-18 06:57:20

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-12-23

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C09B67/22 申请公布日:20121017 申请日:20110407

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2014-02-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):C09B67/22 申请日:20110407

    实质审查的生效

  • 2012-10-17

    公开

    公开

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