一种多膜层光学板的制备方法及一种多膜层光学板

摘要

本发明涉及触摸屏技术，尤其涉及一种多膜层光学板的制备方法及一种多膜层光学板。多膜层光学板的制备方法包括以下步骤：S10），制备复合板；S20），在复合板的两面分别镀设硬化层；S30），在两硬化层的外面分别镀设功能层；其中S10）步骤所述的复合板是具有层对称结构的三层或五层复合板；S30）所述的功能层是增透层、或增光泽度层、或增平滑度层、或抗污抗指纹层。多膜层光学板，包括复合板层，复合板层的两面分别镀设硬化层，两硬化层的外面分别镀设增透层、或增光泽度层、或增平滑度层、或抗污抗指纹层。本发明提供一种能同时实现高硬度与高透过率、不易变形、具有双层导电膜的多膜层光学板及其制备方法。

说明书

技术领域

本发明涉及触摸屏技术，尤其涉及一种多膜层光学板的制备方法及一种多膜层光学板。

背景技术

多膜层导电光学板广泛应用于智能手机、掌上游戏机、数码相机、汽车导航仪、家电等电子产品触摸屏控制面板。

多膜层导电光学板以基材区分，可以分为玻璃基材和塑胶（也称塑料）基材式两种。

目前，广泛采用的是以玻璃为基材，玻璃基板镀设ITO，但由于玻璃基板太厚且重，无法满足很多电子产品“轻”“薄”化的要求，另外玻璃容易脆裂，加工性能不好，且存在一定的安全隐患。

后来也有人采用磁控溅射低温成膜技术，在透明双层复合板上镀制ITO透明导电膜，已经实现规模化工业生产，产品已经在电子通讯领域，透明隔热领域等广泛应用。如我们常见的LCD显示屏、触摸屏、玻璃窗隔热膜等产品。随着相关技术的不断发展，新的应用方式及产生的对产品特性的新的要求不断出现，如近年出现的一些新型结构的触摸屏。

采用现有技术制备的光学板，可以实现高硬度，但无法同时实现增透功能。另一方面，两层复合板在耐侯性测试中容易变形，翘曲值大；且单层功能性膜层无法满足目前面板多性能的使用要求。

发明内容

本发明的目的在于克服上述现有技术的不足之处而提供一种能同时实现高硬度与高透过率的多膜层光学板的制备方法及一种多膜层光学板。

独立地，本发明的目的还在于克服上述现有技术的不足之处而提供一种不易变形的多膜层光学板的制备方法及一种多膜层光学板。

独立地，本发明的目的还在于克服上述现有技术的不足之处而提供一种具有双层导电膜的塑胶基多膜层光学板的制备方法及一种多膜层光学板。

本发明的目的可以通过以下技术方案实现：

一种多膜层光学板的制备方法，其特征在于包括以下步骤：S10），制备复合板；S20），在复合板的两面分别镀设硬化层；S30），在两硬化层的外面分别镀设功能层；其中S10）步骤所述的复合板是具有层对称结构的三层或五层复合板；S30）所述的功能层是增透层、或增光泽度层、或增平滑度层、或抗污抗指纹层。功能层一般指增透层，但也可以是增光泽度层、或增平滑度层、或抗污抗指纹层，以镀膜方式增光泽度、增平滑度层、抗污抗指纹层是现有技术，可以采用干镀二氧化钛等工艺实现。

多膜层光学板的制备方法，其特征在于：S10）步骤所述的复合板，是三层板，中间层为PC或PET膜，内外层均为PMMA材质；S20）步骤采用湿镀工艺，S30）步骤湿镀或干镀。S30）采用湿度可以实现本发明，但其功能效果没有干镀好，指可见光增透性能、光泽镀、抗污抗指纹方面的性能。

多膜层光学板的制备方法，其特征在于：S20）步骤所述的硬化层为脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂材料；S30）步骤所述增透层为有机硅改性脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂材料。

多膜层光学板的制备方法，其特征在于：S20)步骤所述的硬化层为脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂材料或有机硅改性脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂材料；S30）步骤所述增透层为二氧化硅材质或五氧化二铌材质或氟化钛材质。

多膜层光学板的制备方法，其特征在于：S20）步骤采用湿镀方式；S30）步骤采用干镀方式。

多膜层光学板的制备方法，其特征在于： S10）步骤所述的复合板，是三层板，中间层为PC或PET膜，内外层均为PMMA材质；S20）步骤及S30）步骤所述的镀设均采用真空镀膜方式；具体地，S20）步骤采用湿镀方式；S30）步骤采用干镀方式； S20)步骤所述的硬化层为脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂材料或有机硅改性脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂材料；S30）步骤所述增透层为二氧化硅材质或五氧化二铌材质或氟化钛材质。

本发明的目的还可以通过以下技术方案实现：

一种多膜层光学板，其特征在于：包括复合板层，复合板层的两面分别镀设硬化层，两硬化层的外面分别镀设增透层、或增光泽度层、或增平滑度层、或抗污抗指纹层。

多膜层光学板，其特征在于：所述复合板层，中间层为PC或PET膜，内外层均为PMMA材质。

多膜层光学板，其特征在于：S20)步骤所述的硬化层为脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂材料或有机硅改性脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂材料；S30）步骤所述增透层为二氧化硅材质或五氧化二铌材质或氟化钛材质。

一种多膜层光学板，其特征在于：包括复合板层，所述的复合板是具有层对称结构的三层或五层复合板；复合板层的两面分别镀设硬化层，两硬化层的外面分别镀设增透层；其中，复合板层的厚度为0.4毫米至3.0毫米，硬化层的厚度为3微米至18微米，增透层的厚度为5钠米至50钠米。

本发明的多膜层光学板的制备方法包括以下步骤：S10），制备复合板；S20），在复合板的两面分别镀设硬化层；S30），在两硬化层的外面分别镀设增透层；其中S10）步骤所述的复合板是具有层对称结构的三层或五层复合板；与现有技术的玻璃板基材制备方法相比，采用复合板基材制膜之成品加工性好，轻薄。与传统的塑胶基材成膜工艺相比，由于设置了增透层，成品膜在实现高硬度同时实现高透过率。因本发明采用的塑胶基材是层对称结构的复合板，与现有技术相比成品膜不易变形和翘曲。

附图说明

图1是本发明第一个实施例的流程图。

图2是本发明第二个实施例层状结构示意图。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明作进一步详述。

参考图1，本发明第一个实施例是一种多膜层光学板的制备方法，包括以下步骤：S10），制备复合板；S20），在复合板的两面分别镀设硬化层；S30），在两硬化层的外面分别镀设增透层；其中S10）步骤所述的复合板是具有层对称结构的三层或五层复合板。

本实施例中，S10）步骤所述的复合板，是三层板，中间层为PC或PET膜，内外层均为PMMA材质；S20）步骤及S30）步骤所述的镀设均采用真空镀膜方式。S20)步骤所述的硬化层为脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂材料或有机硅改性脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂材料；S30）步骤所述增透层为二氧化硅材质或五氧化二铌材质或氟化钛材质。S20）步骤采用湿镀方式；S30）步骤采用干镀方式。

在本实施例中，S20）步骤可以采用低温表面涂布电镀工艺；S30）步骤可以采用低温真空镀膜电镀工艺；当应理解，这两个步骤的镀设方式并不限于此，也可以采用现有技述中其它温镀和干镀方式，但应当首选低温成膜工艺。

应当理解，在本实施例中，S30）所述的功能层不仅可以是增透层，还可以是增光泽度层、或增平滑度层、或抗污抗指纹层等功能层。如采用干镀二氧化钛等工艺实现抗污抗指纹。也应当理解，S30）采用湿度可以实现本发明，但其功能效果没有干镀好，指可见光增透性能、光泽镀、抗污抗指纹方面的性能，但也可以实现发明目的。

参考图2，本发明第二个实施例是通过本发明第一个实施例之方法制备的多膜层光学板，包括复合板层101，复合板层101的两面分别镀设硬化层102，两硬化层102的外面分别镀设增透层103；本实施例所述复合板层101，中间层1011为PC或PET膜/或板，内外层1012均为PMMA材质；所述的硬化层102为脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂材料，所述增透层103为有机硅改性脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂材料。应当理解，在本实施例中，可以用增光泽度层、或增平滑度层、或抗污抗指纹层取代增透层。