首页> 中国专利> 多孔氮化物半导体上的高品质非极性/半极性半导体器件及其制造方法

多孔氮化物半导体上的高品质非极性/半极性半导体器件及其制造方法

摘要

提供了一种非极性/半极性半导体器件及其制造方法,该非极性/半极性半导体器件具有降低的氮化物半导体层的缺陷密度及提高的内部量子效率和光提取效率。用于制造半导体器件的方法在具有用于生长非极性或半极性氮化物半导体层的晶面的蓝宝石基底、SiC基底或Si基底上形成模板层和半导体器件结构。所述制造方法包括:在基底上形成氮化物半导体层;执行多孔表面改性,使得氮化物半导体层具有多个孔;通过在表面改性的氮化物半导体层上再生长氮化物半导体层来形成模板层;以及在模板层上形成半导体器件结构。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-05-11

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L33/16 申请公布日:20120718 申请日:20100827

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2014-06-04

    著录事项变更 IPC(主分类):H01L33/16 变更前: 变更后: 申请日:20100827

    著录事项变更

  • 2012-09-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L33/16 申请日:20100827

    实质审查的生效

  • 2012-07-18

    公开

    公开

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