用于300mm硅片氧化处理的立式氧化炉石英舟旋转装置

摘要

本发明公开了一种用于300mm硅片氧化处理的立式氧化炉石英舟旋转装置，设有步进电机，石英舟的下方设有SiC转盘，在该SiC盘的底部中央设有固定轴，固定轴的下端设有带轮，该带轮通过传动带与步进电机传动连接；在固定轴的下部设有舟旋转定位装置，上部设有密封腔，密封腔设有进出气管，SiC转盘的下面设有带水冷却腔炉门，炉门底部固定设有轴罩，在轴罩的底端与SiC转盘的固定轴之间设有密封环；在炉门下面设有数个缓冲器，在炉门四周下面还设有密封挡板。本发明适用于用于300mm硅片氧化处理的立式氧化炉石英舟的旋转装置，结构完善，控制灵活，水平、垂直位置控制精确。从而使硅片受热均匀，提高了硅片膜厚均匀性。