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控制阴离子单体含量的疏水性高分子絮凝剂的合成工艺

摘要

本发明公开了一种控制阴离子单体含量的疏水性高分子絮凝剂的合成工艺,包括步骤为:依次将甲基丙烯酸甲酯、丙烯酰胺、丙烯酸、二甲基二烯丙基氯化铵、氢氧化钠、尿素溶于纯水中,控制阴离子单体含量为2.47%;加入亚硫酸钠、发泡剂和过硫酸铵;将丙烯酸进行中和搅拌均匀;静置后取出聚合体提纯;将聚合体干燥研磨,即得产品等步骤。本发明能成功合成出疏水性高分子絮凝剂,且工艺简单,合成时间短,合成出的高分子絮凝剂具有优良的速溶性和贮存稳定性,不会出现久置变稀、形成微凝胶、出现相分离,产生白色沉淀的现象;且通过控制合成过程中的阴离子单体含量,从而提高了合成出的疏水性高分子絮凝剂的絮凝效果和沉降速度。

著录项

  • 公开/公告号CN102477134A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-05-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 袁连海;

    申请/专利号CN201010568269.1

  • 发明设计人 袁连海;

    申请日2010-11-22

  • 分类号C08F226/02;C08F220/14;C08F220/56;C08F220/06;C08J9/08;C02F1/56;

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 610000 四川省成都市武侯区倒桑树街139号

  • 入库时间 2023-12-18 05:21:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-07-09

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C08F226/02 申请公布日:20120530 申请日:20101122

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2012-05-30

    公开

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