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氮化镓基紫外光发光二极管及其制造方法

摘要

一种氮化镓基紫外光发光二极管,包括基板、缓冲层及半导体发光结构,基板上形成若干阵列分布的凸起,相邻的凸起之间相互间隔形成一凹陷,基板于每一凹陷的底部形成一底面,缓冲层形成于基板的每一凹陷的底面,还包括横向生长增强层,横向生长增强层覆盖于基板及缓冲层之上,半导体发光结构位于横向生长增强层上。与现有技术相比,上述氮化镓基紫外光发光二极管的横向生长增强层内掺杂杂质,杂质提高形成横向生长增强层时的横向生长速度,进而提高横向生长增强层的生长品质,从而有助于最终形成具有较佳品质的氮化镓基紫外光发光二极管。本发明还公开一种氮化镓基紫外光发光二极管制造方法。

著录项

  • 公开/公告号CN102437260A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-05-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201010297408.1

  • 发明设计人 洪梓健;沈佳辉;

    申请日2010-09-29

  • 分类号H01L33/02;H01L33/00;

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 518109 广东省深圳市宝安区龙华街道办油松第十工业区东环二路二号

  • 入库时间 2023-12-18 05:04:15

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