一种用于非透光切割道中防止光掩模版应力损坏的方法

摘要

本发明涉及半导体制造领域，尤其涉及一种用于非透光切割道中防止光掩模版应力损坏的方法。本发明公开了一种用于非透光切割道中防止光掩模版应力损坏的方法，通过设置应力阻挡环，能有效降低光掩模版制造过程中或重修过程中外围图形区域产生的应力对套刻标记的影响。