首页> 中国专利> 磁性膜加工室的清洁方法、磁性器件的制造方法及基板处理设备

磁性膜加工室的清洁方法、磁性器件的制造方法及基板处理设备

摘要

本发明提供能够缩短清洁步骤的时间的多层膜的制造方法、磁致电阻效应器件的制造方法以及基板处理设备。在本发明的一个实施方式中,在加工之间,可以用含有氢气和氧气的混合气体的等离子体清洁蚀刻设备的内部。这缩短了清洁时间,从而提高了生产性。

著录项

  • 公开/公告号CN102224610A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-10-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 佳能安内华股份有限公司;

    申请/专利号CN201080003271.2

  • 发明设计人 长田智明;F·恩努特;

    申请日2010-01-21

  • 分类号

  • 代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人刘新宇

  • 地址 日本神奈川县

  • 入库时间 2023-12-18 03:34:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-03-26

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L43/12 申请公布日:20111019 申请日:20100121

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2011-11-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L43/12 申请日:20100121

    实质审查的生效

  • 2011-10-19

    公开

    公开

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