溅射装置、薄膜形成方法和场效应晶体管的制造方法

摘要

本发明提供一种可减少衬底层损伤的溅射装置、薄膜形成方法和场效应晶体管的制造方法。在本发明所述的溅射装置中，沿着排列在真空室内部的多个靶部Tc1～Tc5的排列方向依次使其产生溅射，以使在基板10的表面形成薄膜。因此本发明可以提高溅射粒子斜向射入基板表面的比例，这可有助于减少衬底层的损伤。