公开/公告号CN102126706A
专利类型发明专利
公开/公告日2011-07-20
原文格式PDF
申请/专利权人 上海国环能源开发有限公司;日本伸光株式会社;
申请/专利号CN201010105126.7
申请日2010-02-03
分类号C01B3/32;
代理机构上海精晟知识产权代理有限公司;
代理人吴家敏
地址 202158 上海市崇明县港沿镇港沿公路1700号5幢2310室
入库时间 2023-12-18 02:51:52
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2013-06-12
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C01B3/32 申请公布日:20110720 申请日:20100203
发明专利申请公布后的视为撤回
2011-08-31
实质审查的生效 IPC(主分类):C01B3/32 申请日:20100203
实质审查的生效
2011-07-20
公开
公开
机译: 半导体制造工艺的汽化设备,该工艺可汽化液体源以形成薄膜并将汽化的液体源供应到反应室
机译: 用于分子束汽化和分子束外延的汽化装置和汽化工艺
机译: 汽化器,利用汽化器设备的方法,容器,为半导体工艺腔室产生汽化的方法