首页> 中国专利> 用于高产量及稳定逐基材表现的快速周期和广泛的后期紫外臭氧清洗程序的添加

用于高产量及稳定逐基材表现的快速周期和广泛的后期紫外臭氧清洗程序的添加

摘要

一种清洁一基材处理室的方法,包含在界定出一或多个处理区的处理室内处理一批次基材。可在一子例程中执行该批次基材的处理,其中该子例程具有多个子步骤,包含:在该处理室内处理来自该批次的一基材;从该处理室中移出该基材;通入臭氧至该处理室内;以及将该处理室暴露在紫外光下低于一分钟。可重复该等基材批处理子步骤直到处理完该批次内的最后一个基材为止。在处理该批次内的最后一个基材之后,该方法包含:从该处理室中移出该最后一个基材;通入臭氧至该处理室内;以及将该处理室暴露在紫外光下三至十五分钟。

著录项

  • 公开/公告号CN102077316A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-05-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 应用材料股份有限公司;

    申请/专利号CN200980125854.X

  • 申请日2009-06-04

  • 分类号H01L21/00;H01L21/02;H01L21/205;

  • 代理机构上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人陆嘉

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-12-18 02:30:29

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-02-24

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L21/00 申请公布日:20110525 申请日:20090604

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2012-01-04

    著录事项变更 IPC(主分类):H01L21/00 变更前: 变更后: 申请日:20090604

    著录事项变更

  • 2011-08-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/00 申请日:20090604

    实质审查的生效

  • 2011-05-25

    公开

    公开

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