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有机EL用掩模清洗方法、有机EL用掩模清洗装置及有机EL显示器的制造装置

摘要

本发明的目的在于,提供一种有机EL用掩模清洗方法,在应用激光除去附着于有机EL用掩模的有机材料时,对有机EL用掩模不会造成不能复原的损害,获得高的清洁度。一种有机EL用掩模清洗方法,在附着了有机材料(51)的有机EL用掩模(2)的表面扫描激光而除去有机材料(51),其照射在使激光(L)透过有机材料(51)照射到有机EL用掩模(2)时,将有机材料(51)维持在固态,且有机EL用掩模在照射后不变形的激光(L)。另外,通过照射激光(L),在有机材料(51)和有机EL用掩模(2)间具有由温度差引起的热膨胀差,由此,对层间作用剥离力进行有机材料(51)的除去。

著录项

  • 公开/公告号CN102034937A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-04-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社日立高新技术;

    申请/专利号CN201010283620.2

  • 申请日2010-09-10

  • 分类号

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人黄永杰

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-12-18 02:09:16

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-08-21

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L51/56 申请公布日:20110427 申请日:20100910

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2011-06-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L51/56 申请日:20100910

    实质审查的生效

  • 2011-04-27

    公开

    公开

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