法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2013-04-03
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C07F9/10 申请公布日:20110413 申请日:20101227
发明专利申请公布后的视为撤回
2011-06-01
实质审查的生效 IPC(主分类):C07F9/10 申请日:20101227
实质审查的生效
2011-04-13
公开
公开
机译: 高纯锆或HA,溅射由高纯锆或AND和使用该靶制成的薄膜的靶,以及高纯锆或HA的生产方法以及高纯锆或HA的粉体的制备方法
机译: 高纯锆或HA,溅射由高纯锆或AND和使用该靶制成的薄膜的靶,以及高纯锆或HA的生产方法以及高纯锆或HA的粉体的制备方法
机译: 高纯锆或HA,溅射由高纯锆或AND和使用该靶制成的薄膜的靶,以及高纯锆或HA的生产方法以及高纯锆或HA的粉体的制备方法