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画素结构的修补方法、修补后的画素结构以及画素数组

摘要

一种画素结构的修补方法,此方法包括提供位于基板上的画素结构,此画素结构包括扫描线以及数据线、主动组件、绝缘层以及画素电极。扫描线以及数据线位于基板上。主动组件位于基板上且与扫描线以及数据线电性连接。绝缘层覆盖主动组件、扫描线以及数据线,其中绝缘层中具有接触窗开口。画素电极位于绝缘层上,其中画素电极填入接触窗开口中以与主动组件电性连接。接着,进行激光移除程序,以移除位于接触窗开口内的画素电极,以使画素电极与主动组件电性绝缘。本发明还公开了一种修补后的画素结构及画素数组。

著录项

  • 公开/公告号CN101969044A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-02-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 友达光电股份有限公司;

    申请/专利号CN201010267630.7

  • 申请日2010-08-25

  • 分类号H01L21/77;H01L21/768;H01L27/12;G02F1/1362;G02F1/1343;

  • 代理机构上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人郭蔚

  • 地址 中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行二路一号

  • 入库时间 2023-12-18 01:48:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-07-08

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L21/77 申请公布日:20110209 申请日:20100825

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2011-03-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/77 申请日:20100825

    实质审查的生效

  • 2011-02-09

    公开

    公开

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