法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2012-11-28
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C14/35 申请公布日:20110209 申请日:20101015
发明专利申请公布后的驳回
2011-03-23
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/35 申请日:20101015
实质审查的生效
2011-02-09
公开
公开
机译: 高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)在多孔基体中进行深金属沉积,金属催化剂浸渍的多孔基质及其用途
机译: 高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)在多孔基体中进行深金属沉积,金属催化剂浸渍的多孔基质及其用途
机译: 磁控溅射源,溅射镀膜系统以及通过提高功率密度来提高镀膜效率的基体镀膜方法